Kính hiển vi Kerr từ trường cao Hệ thống MOKE độ nhạy cao để nghiên cứu từ tính yếu và vật liệu 2D

Mô tả sản phẩm:

Với dải nhiệt độ thay đổi từ 4.2 K đến 420 K, các nhà nghiên cứu có thể linh hoạt nghiên cứu nhiều loại vật liệu trong các điều kiện nhiệt độ khác nhau. Dải nhiệt độ rộng này rất lý tưởng để điều tra các tính chất của vật liệu từ tính yếu ở nhiệt độ thấp, cung cấp những hiểu biết giá trị về hành vi và phản ứng từ tính của chúng.

Một trong những tính năng chính của hệ thống này là khả năng tạo ra từ trường trong mặt phẳng. Được trang bị một nam châm làm mát bằng nước, hệ thống có thể tạo ra từ trường 1 T ở khe hở không khí 18 mm ở nhiệt độ phòng. Ở nhiệt độ thấp, cường độ từ trường vẫn ấn tượng ở mức 0.75 T với khe hở không khí 28 mm. Độ phân giải từ trường cao 0.05 MT, đạt được thông qua điều chỉnh phản hồi vòng kín PID, đảm bảo kiểm soát và đo lường chính xác từ trường trong các thí nghiệm.

Ngoài khả năng tạo từ trường trong mặt phẳng, hệ thống còn cung cấp chức năng từ trường theo chiều dọc. Nam châm làm mát bằng nước có thể tạo ra từ trường theo chiều dọc 1.6 T ở khe hở không khí 10.5 mm ở nhiệt độ phòng, cung cấp cho các nhà nghiên cứu khả năng nghiên cứu vật liệu từ tính theo nhiều hướng. Ở nhiệt độ thấp, cường độ từ trường theo chiều dọc vẫn đáng kể ở mức 1 T với khe hở không khí 24 mm, cho phép điều tra từ trường toàn diện trên các dải nhiệt độ khác nhau.

Các nhà nghiên cứu và các nhà khoa học làm việc trong lĩnh vực từ tính nhiệt độ thấp sẽ được hưởng lợi rất nhiều từ các tính năng tiên tiến và khả năng kiểm soát chính xác do Hệ thống Microimaging Kerr Laser từ trường cao đông lạnh cung cấp. Cho dù nghiên cứu các tính chất từ tính của các vật liệu mới, điều tra các chuyển pha từ tính hay khám phá cấu trúc miền từ tính, hệ thống này cung cấp các công cụ và khả năng cần thiết để tiến hành nghiên cứu đột phá trong lĩnh vực từ tính nhiệt độ thấp.

Tính năng:

• Tên sản phẩm: Hệ thống Microimaging Kerr Laser từ trường cao đông lạnh
• Độ phân giải góc Kerr: 0.5 Mdeg (RMS)
• Dải nhiệt độ thay đổi: 4.2 K - 420 K
• Độ phân giải từ trường: Điều chỉnh phản hồi vòng kín PID, Độ phân giải 0.05 MT
• Độ ổn định nhiệt độ: ±50 MK
• Độ phân giải quang học: 450 Nm

Thông số kỹ thuật:

Ứng dụng:

Các dịp và tình huống ứng dụng sản phẩm cho Hệ thống Microimaging Kerr Laser từ trường cao đông lạnh:

Hệ thống Microimaging Kerr Laser từ trường cao đông lạnh KMPL-L của Truth Instruments, có nguồn gốc từ TRUNG QUỐC, là một công cụ tiên tiến được thiết kế cho các ứng dụng nghiên cứu tiên tiến trong Quang học từ tính nhiệt độ thấp và đo độ từ hóa.

Với độ phân giải quang học đặc biệt là 450 Nm và một loạt các mục tiêu bao gồm 5*, 20*, 50*, 100* và Không từ tính, hệ thống này cung cấp khả năng chụp ảnh chính xác cho nhiều nghiên cứu khoa học.

Dải nhiệt độ thay đổi từ 4.2 K - 420 K cho phép các nhà nghiên cứu tiến hành các thí nghiệm ở nhiệt độ cực thấp, làm cho nó lý tưởng để điều tra các vật liệu và hiện tượng thể hiện các tính chất độc đáo trong các điều kiện như vậy.

Được trang bị kích thước điểm laser 5 μm và từ trường trong mặt phẳng được tạo ra bởi nam châm làm mát bằng nước, hệ thống cung cấp khả năng chụp ảnh chất lượng cao và kiểm soát từ trường để phân tích chi tiết.

Các nhà nghiên cứu có thể sử dụng từ trường 1 T@khe hở không khí 18 mm ở nhiệt độ phòng và từ trường 0.75 T@khe hở không khí 28 mm ở nhiệt độ thấp để nghiên cứu ảnh hưởng của các từ trường khác nhau lên các mẫu khác nhau một cách chính xác.

Nhìn chung, Hệ thống Microimaging Kerr Laser từ trường cao đông lạnh KMPL-L của Truth Instruments là một công cụ đa năng có thể được áp dụng trong nhiều môi trường nghiên cứu khác nhau, chẳng hạn như vật lý vật chất ngưng tụ, nghiên cứu vật liệu từ tính và công nghệ nano, nơi cần thiết phải chụp ảnh chính xác và thao tác từ trường ở nhiệt độ thấp.