360度半導体プローブステーション 低温真空プローブステーション スピントロニクス用

製品説明:

極低温面内磁場プローブステーションは、低温での精密で正確なスピンポンピング測定用に設計された、多用途で高度なスピントロニクス試験プラットフォームです。この最先端のプローブステーションは、スピン関連の実験に取り組む研究者やエンジニアに優れた機能を提供します。

主な特徴:

• プローブアームストローク: X+Z、50 mm-25 mm-25 mm
• サンプル温度: <8 K-420 K
• 磁場: 水冷電磁石、面内方向、±0.65 Tの強度
• プローブアーム数: 4つのプローブアーム
• ニードリング範囲: 直径25 mm以内の任意の点

極低温面内磁場プローブステーションは、X軸に沿って50 mm、Z軸に沿って25 mmのストローク長を提供する、X+Zのユニークなプローブアームストローク構成を備えています。これにより、実験中のサンプルの正確な位置決めと操作が可能になります。

サンプル温度範囲が<8 Kから420 Kであるため、このプローブステーションは、研究者が幅広い温度スペクトルにわたって材料とデバイスを研究することを可能にし、さまざまな温度領域でのスピン関連現象の調査に最適です。

このプローブステーションの際立った特徴の1つは、その磁場システムです。水冷電磁石は、面内方向に最大±0.65 Tの強力な磁場を生成し、サンプル内のスピン配向の正確な制御と操作を可能にします。この機能は、スピンポンピング測定やその他のスピン関連実験を行うために不可欠です。

4つのプローブアームを備えた極低温面内磁場プローブステーションは、サンプルの取り扱いと測定において、柔軟性と効率性を向上させます。研究者は、サンプル上の複数のポイントを同時にプローブしたり、並列測定を実行したりして、実験ワークフローを合理化し、生産性を向上させることができます。

このプローブステーションのニードリング範囲は、直径25 mm以内の任意の点をカバーしており、研究者はサンプル上の関心のある特定の領域に高精度でアクセスできます。この機能は、スピントロニクス研究における詳細で局所的な測定を行うために重要です。

要約すると、極低温面内磁場プローブステーションは、スピン関連の研究のための最先端のツールであり、低温でのスピン現象の調査のための包括的な機能セットを提供します。高度なプローブアーム構成、幅広いサンプル温度範囲、強力な磁場システム、複数のプローブアーム、および正確なニードリング範囲を備えたこのプローブステーションは、スピンポンピング測定やその他のスピントロニクス実験を行う研究者やエンジニアにとって不可欠な資産です。

特徴:

• 製品名: 極低温面内磁場プローブステーション
• サンプル温度: <8 K-420 K
• サンプルスペース: サンプルホルダー直径最大51 mm
• プローブアーム数: 4つのプローブアーム
• 振動: サンプルステージ振動 <1 μm (ピークツーピーク)
• プローブアームストローク: X+Z、50 mm-25 mm-25 mm

技術的パラメータ:

アプリケーション:

Truth Instrumentsの極低温面内磁場プローブステーション、モデルPS1DX-Cryoは、磁性材料分野における高度な研究と試験の要求に応えるように設計された最先端の製品です。CNINA発祥のこのプローブステーションは、水平方向の高磁場下でのサンプルの研究に比類のない機能を提供します。

X+Zのプローブアームストロークは、50 mm-25 mm-25 mmの寸法で、サンプルの正確な位置決めと操作を可能にします。サンプルステージの振動を1 μm (ピークツーピーク)以下に抑えることで、研究者は最大限の精度と信頼性で実験を行うことができます。

面内方向に強力な±0.65 Tの磁場を生成できる水冷電磁石を搭載したこのプローブステーションは、高磁場下での材料の挙動を研究するのに最適です。その熱アンカーは、プローブアームとサンプルステージ間の温度差を10 K以下に保ち、実験中のサンプルの完全性を維持します。

磁性材料を扱う研究者は、<±20 MK (8 K-420 K)の温度安定性を高く評価し、一貫した制御された実験条件を可能にします。Truth Instrumentsの極低温面内磁場プローブステーションは、正確な温度制御と高磁場を必要とする実験を行うための安定したプラットフォームを提供します。

製品の用途とシナリオ: - 高磁場下での磁性材料の研究 - 水平磁場に対する材料の応答に関する研究 - さまざまな温度での磁気特性の調査 - 制御された温度環境での材料の特性評価 - 面内方向での磁気挙動の分析