
拡張可能な研究開発のための精密RF探査ステーション
プログラム可能な探査ステーション
,正確なRF探査ステーション
,RF探査ステーション プログラム可能
基本的な特性
取引物件
拡張可能な研究開発用プログラマブルプローブステーション
製品説明:
1D面内磁場プローブステーションは、DCおよびRFデバイスの正確かつ効率的なテスト用に設計された最先端のツールです。この多用途プローブステーションは、最新の研究開発アプリケーションの要求に応えるための幅広い機能と能力を提供します。
この磁気プローブステーションの主な特徴の1つは、0.75Xから5Xまでの光学倍率範囲です。これにより、ユーザーはサンプルを非常に鮮明かつ正確に検査および配置できるため、正確な測定と分析が保証されます。
磁場強度に関しては、このプローブステーションは、20mmのエアギャップで最大1テスラの能力を発揮します。この高レベルの磁場強度により、研究者はサンプルの磁気特性を効果的に探索および特性評価するために必要な条件を得ることができます。
このステーションのプローブシートには、4グループのDCプローブ、1グループのRFプローブ、および8ピンワイヤボンドサンプルシートが装備されています。この構成により、ユーザーは幅広いテストと測定を実行できるため、DCおよびRFデバイスのテストの両方に最適です。
ソースメーターの互換性の面では、1D面内磁場プローブステーションは、SR830、N5173B、Keithley 6221、Keithley 2182Aなどのさまざまなソースメーターと互換性があります。この柔軟性により、研究者は既存の機器をプローブステーションとシームレスに統合して、機能性と利便性を向上させることができます。
このプローブステーションのもう1つの優れた機能は、サンプル変位ステージです。これは、X軸調整ストローク±15mmと10μmの調整感度を提供します。さらに、このステージは360度の電動回転を誇り、ユーザーにテストと分析のためにサンプルを配置する際の優れた制御と精度を提供します。
拡張可能な機能と高度な能力を備えた1D面内磁場プローブステーションは、磁性材料およびデバイス特性評価の分野で働く研究者およびエンジニアにとって貴重なツールです。基礎研究、デバイステスト、または材料分析のいずれを実行する場合でも、このプローブステーションは、信頼性の高い正確な結果を達成するために必要なパフォーマンスと柔軟性を提供します。
特徴:
- 製品名:1D面内磁場プローブステーション
- エアギャップ:0〜80mmから調整可能
- ソースメーター:SR830、N5173B、Keithley 6221、Keithley 2182A
- サンプル変位ステージ:X軸調整ストローク±15mm、調整感度10μm; T軸360度電動回転
- 磁場分解能:PID閉ループフィードバック制御、分解能0.05 MT
- 光学倍率:0.75 X-5 X
技術的パラメータ:
磁場均一性 | ±1%φ1 mm |
磁場分解能 | PID閉ループフィードバック制御、分解能0.05 MT |
エアギャップ | 0〜80mmから調整可能 |
ソースメーター | SR830、N5173B、Keithley 6221、Keithley 2182A |
光学倍率 | 0.75 X-5 X |
磁場強度 | 1 T@エアギャップ20 mm |
プローブシート | 4グループのDCプローブ、1グループのRFプローブ、8ピンワイヤボンドサンプルシート |
サンプル変位ステージ | X軸調整ストローク±15mm、調整感度10μm; T軸360度電動回転 |
アプリケーション:
Truth Instrumentsは、半導体業界での精密測定用に設計されたPS1DX-MS面内磁場プローブステーションを発表します。中国発のこの革新的な製品は、0.75Xから5Xまでの優れた光学倍率を提供し、テスト中の鮮明で詳細な観察を保証します。
±1%φ1 mmの磁場均一性は、半導体の研究開発に不可欠な正確で信頼性の高い結果を保証します。プローブステーションのサンプル変位ステージは、X軸調整ストローク±15 mmの柔軟性を提供し、10μmの調整感度を提供します。さらに、このステージは360度の電動回転を可能にし、システムの自動化機能を強化します。
0〜80 mmの調整可能なエアギャップにより、PS1DX-MSはさまざまなサンプルサイズと構成に対応し、さまざまなテストシナリオに対応する多用途ツールとなっています。SR830、N5173B、Keithley 6221、Keithley 2182Aなどのソースメーターの統合により、テスト中の電気的パラメータの正確な制御と測定が保証されます。
製品の適用機会とシナリオ:
- 面内磁場要件のある半導体デバイスの特性評価
- 半導体研究開発ラボにおける自動化されたテストプロセス
- 半導体材料における磁場均一性の精密測定
- 薄膜およびナノ構造における磁気特性の分析
- 電子部品に対する磁場効果の評価