Wafer Scale Hysteresis Loop Tracer cho đo lường từ tính không tiếp xúc

Mô tả sản phẩm:

Thiết bị Đo vòng trễ ở cấp độ Wafer là một công cụ tiên tiến được thiết kế để đặc trưng chính xác và hiệu quả các tính chất từ tính ở cấp độ wafer. Thiết bị này rất cần thiết cho các ngành công nghiệp yêu cầu các phép đo chính xác và đáng tin cậy cho mục đích kiểm soát chất lượng và nghiên cứu.

Một trong những tính năng chính của sản phẩm này là Khả năng lặp lại mẫu vượt trội, tốt hơn 10 μm. Mức độ chính xác này đảm bảo kết quả nhất quán và đáng tin cậy, rất quan trọng để phân tích các tính chất từ tính với độ chính xác cao.

Khi nói đến khả năng tương thích về Kích thước mẫu, thiết bị này rất linh hoạt và hỗ trợ các mẫu có kích thước lên đến 12 inch trở xuống. Ngoài ra, nó có khả năng xử lý thử nghiệm mảnh vỡ, mang lại sự linh hoạt trong việc chuẩn bị mẫu và các quy trình thử nghiệm.

Thiết bị Đo vòng trễ ở cấp độ Wafer tự hào có khả năng Trường từ mạnh mẽ, với phạm vi dọc là ±2.4 T và phạm vi trong mặt phẳng là ±1.3 T. Các cường độ từ trường này cho phép đặc trưng toàn diện các vật liệu từ tính, làm cho nó trở thành một công cụ lý tưởng để Đặc trưng từ tính ở cấp độ Wafer.

Để tăng thêm sự tiện lợi và hiệu quả, EFEM (Mô-đun đầu cuối thiết bị) là tùy chọn với thiết bị này. Việc tích hợp EFEM hợp lý hóa quy trình thử nghiệm và tăng cường năng suất tổng thể, đặc biệt là trong môi trường sản xuất thông lượng cao.

Hiệu quả thử nghiệm là một tính năng nổi bật của thiết bị này, cung cấp tốc độ thử nghiệm là 12 WPH (Wafer trên giờ) ở ±1.3 T với 9 phép đo Site trên wafer 200 mm. Thông lượng thử nghiệm cao này làm cho thiết bị phù hợp với thử nghiệm MOKE (Hiệu ứng Kerr từ quang học) trên dây chuyền sản xuất, nơi các phép đo nhanh chóng và đáng tin cậy là điều cần thiết.

Tính năng:

• Tên sản phẩm: Thiết bị Đo vòng trễ ở cấp độ Wafer
• Độ phân giải từ trường: Điều chỉnh phản hồi vòng kín PID, 0.01 MT
• Chức năng kiểm tra:
  • Đo vòng trễ không phá hủy của các ngăn xếp/thiết bị từ tính
  • Trích xuất tự động thông tin vòng trễ (Hc lớp tự do và lớp ghim, Hex, M (Giá trị góc Kerr))
  • Lập bản đồ nhanh chóng phân bố đặc tính từ tính của wafer
• Khả năng lặp lại mẫu: Tốt hơn 10 μm
• Từ trường: Dọc ±2.4 T; Trong mặt phẳng ±1.3 T
• Độ phân giải góc Kerr: 0.3 Mdeg (RMS)

Thông số kỹ thuật:

Ứng dụng:

Wafer-MOKE của Truth Instruments là một Công cụ Đo lường Từ tính tiên tiến được thiết kế để đo vòng trễ chính xác trong nhiều tình huống. Với các khả năng đặc biệt và các tính năng tiên tiến, thiết bị này lý tưởng cho một loạt các Dịp và Tình huống Ứng dụng Sản phẩm.

Có nguồn gốc từ TRUNG QUỐC, Wafer-MOKE được thiết kế để mang lại hiệu suất và hiệu quả vô song. Hiệu quả thử nghiệm cao của nó là 12 WPH@±1.3 T /9 Phép đo Site/Wafer 200 Mm đảm bảo các quy trình thử nghiệm nhanh chóng và chính xác, khiến nó trở thành một tài sản quý giá trong các cơ sở nghiên cứu, nhà máy sản xuất và các tổ chức học thuật.

Một trong những tính năng nổi bật của sản phẩm này là Độ đồng đều từ trường đáng chú ý của nó, vượt quá ±1%@Φ1 Mm. Mức độ chính xác này là điều cần thiết cho các ứng dụng yêu cầu tính nhất quán và độ tin cậy, chẳng hạn như Thử nghiệm MRAM và đặc trưng vật liệu từ tính.

Wafer-MOKE tự hào có khả năng Từ trường mạnh mẽ, với khả năng Dọc ±2.4 T và Trong mặt phẳng ±1.3 T. Tính linh hoạt này cho phép người dùng tiến hành nhiều thí nghiệm và phép đo, đáp ứng các nhu cầu nghiên cứu đa dạng.

Được trang bị Độ phân giải góc Kerr là 0.3 Mdeg (RMS), thiết bị này mang lại độ chính xác đặc biệt trong việc nắm bắt các biến thể từ tính tinh tế. Các nhà nghiên cứu và nhà khoa học làm việc về các nghiên cứu miền từ và phân tích vật liệu sẽ thấy Wafer-MOKE không thể thiếu cho các dự án của họ.

Hơn nữa, khả năng tương thích của thiết bị với các kích thước mẫu lên đến 12 inch trở xuống, cũng như hỗ trợ Thử nghiệm mảnh vỡ, càng tăng cường tính linh hoạt và khả năng ứng dụng của nó. Cho dù phân tích các mảnh nhỏ hay các wafer lớn hơn, Wafer-MOKE đều cung cấp sự linh hoạt cần thiết để đo từ tính toàn diện.

Tóm lại, Truth Instruments Wafer-MOKE là một sản phẩm hiện đại vượt trội trong các ứng dụng MOKE ở cấp độ Wafer, khiến nó trở thành một công cụ không thể thiếu để đo lường từ tính, thử nghiệm MRAM và các nỗ lực nghiên cứu khác nhau.