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非接触磁気計測用ウェーハースケールヒステリシスループトレーサー

Wafer Scale Hysteresis Tracer For Non Contact Magnetic Metrology Product Description: The Wafer-Level Hysteresis Loop Measurement Instrument is a cutting-edge tool designed for precise and efficient characterization of magnetic properties at the wafer level. This instrument is essential for industries requiring accurate and reliable measurements for quality control and research purposes. One of the key features of this product is its exceptional Sample Repeatability, which is
製品詳細
ハイライト:

ウェーハースケールヒステリシスループトレーサー

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非接触ヒステリシスループトレーサー

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磁気計測ヒステリシスループトレーサー

Name: ヒステリシスループトレーサー
EFEM: オプション
Testing Efficiency: 12 wph@±1.3 t /9サイト測定 /200 mmウェーハ
Magnetic Field Uniformity: ±1%@φ1mmよりも優れています
Magnetic Field Resolution: PID閉ループフィードバック規制、0.01 mt
Testing Functions: 磁気スタック/デバイスの非破壊ヒステリシスループ測定、ヒステリシスループ情報の自動抽出(自由層とピン留め層HC、HEX、M(KERR角度))、およびウェーハ磁気特性分布の迅速なマッピング
Sample Repeatability: 10μmよりも優れています
Sample Size: 12インチ以下と互換性があるため、フラグメントテストをサポートしています
Uptime: 90%

基本的な特性

ブランド名: Truth Instruments
モデル番号: ウェーハ - ミーク

取引物件

価格: Price Negotiable | Contact us for a detailed quote
支払条件: T/T
製品の説明

ウェーハースケールヒステリシストレーサー 非接触磁気計測用

製品説明:

ウェーハレベルヒステリシスループ測定器は、ウェーハレベルでの磁気特性を正確かつ効率的に特性評価するために設計された最先端のツールです。この機器は、品質管理および研究目的で正確で信頼性の高い測定を必要とする業界にとって不可欠です。

この製品の重要な特徴の1つは、10μmを超える優れたサンプル再現性です。このレベルの精度は、一貫性と信頼性の高い結果を保証し、高精度で磁気特性を分析するために不可欠です。

サンプルサイズの互換性に関しては、この機器は汎用性が高く、最大12インチ以下のサンプルをサポートしています。さらに、フラグメントテストにも対応しており、サンプル準備とテスト手順に柔軟性を提供します。

ウェーハレベルヒステリシスループ測定器は、強力な磁場機能を誇り、垂直範囲は±2.4 T、面内範囲は±1.3 Tです。これらの磁場強度は、磁性材料の包括的な特性評価を可能にし、ウェーハレベルの磁気特性評価に理想的なツールとなっています。

利便性と効率性を高めるために、この機器にはEFEM(Equipment Front End Module)がオプションで用意されています。EFEMの統合により、テストプロセスが合理化され、特に高スループットの生産環境において、全体的な生産性が向上します。

テスト効率は、この機器の際立った特徴であり、200 mmウェーハで9サイト測定、±1.3 Tで12 WPH(Wafers Per Hour)のテスト速度を提供します。この高いテストスループットにより、この機器は、迅速で信頼性の高い測定が不可欠な生産ラインMOKE(マグニートー-Optical Kerr Effect)テストに適しています。

 

特徴:

  • 製品名:ウェーハレベルヒステリシスループ測定器
  • 磁場分解能:PID閉ループフィードバック制御、0.01 MT
  • テスト機能:
    • 磁性スタック/デバイスの非破壊ヒステリシスループ測定
    • ヒステリシスループ情報の自動抽出(自由層およびピン留め層Hc、Hex、M(Kerr角値))
    • ウェーハ磁気特性分布の迅速なマッピング
  • サンプル再現性:10μm以上
  • 磁場:垂直±2.4 T; 面内±1.3 T
  • カー角分解能:0.3 Mdeg(RMS)
 

技術的パラメータ:

稼働時間 90%
磁場分解能 PID閉ループフィードバック制御、0.01 MT
EFEM オプション
カー角分解能 0.3 Mdeg(RMS)
テスト効率 12 WPH@±1.3 T /9サイト測定/200 mmウェーハ
磁場均一性 ±1%@Φ1 mm以上
サンプル再現性 10μm以上
磁場 垂直±2.4 T; 面内±1.3 T
テスト機能 磁性スタック/デバイスの非破壊ヒステリシスループ測定、ヒステリシスループ情報の自動抽出(自由層およびピン留め層Hc、Hex、M(Kerr角値))、およびウェーハ磁気特性分布の迅速なマッピング
サンプルサイズ 12インチ以下に対応、フラグメントテストをサポート
 

アプリケーション:

Truth InstrumentsのWafer-MOKEは、さまざまなシナリオで正確なヒステリシスループ測定を行うために設計された最先端の磁気計測ツールです。その優れた機能と高度な特徴により、この機器は、さまざまな製品アプリケーションの機会とシナリオに最適です。

中国発のWafer-MOKEは、比類のない性能と効率を提供するように設計されています。12 WPH@±1.3 T /9サイト測定/200 mmウェーハという高いテスト効率により、迅速かつ正確なテストプロセスが保証され、研究施設、製造工場、学術機関にとって貴重な資産となっています。

この製品の際立った特徴の1つは、±1%@Φ1 mmを超える優れた磁場均一性です。このレベルの精度は、MRAMテストや磁性材料の特性評価など、一貫性と信頼性が求められるアプリケーションに不可欠です。

Wafer-MOKEは、垂直±2.4 T、面内±1.3 Tという強力な磁場容量を誇っています。この柔軟性により、ユーザーは幅広い実験と測定を行うことができ、多様な研究ニーズに対応できます。

0.3 Mdeg(RMS)のカー角分解能を備えたこの機器は、微妙な磁気変動を捉える際に優れた精度を提供します。磁気ドメイン研究や材料分析に取り組む研究者や科学者は、Wafer-MOKEをプロジェクトに不可欠なものと見なすでしょう。

さらに、最大12インチ以下のサンプルサイズとの互換性、およびフラグメントテストのサポートにより、その汎用性と適用性がさらに向上しています。小さなフラグメントまたは大きなウェーハを分析する場合でも、Wafer-MOKEは、包括的な磁気測定に必要な柔軟性を提供します。

結論として、Truth Instruments Wafer-MOKEは、ウェーハスケールMOKEアプリケーションに優れた最先端の製品であり、磁気計測、MRAMテスト、およびさまざまな研究活動に不可欠なツールとなっています。

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