MOKE Wafer Scanner EFEM Sistema di Misura Wafer per Mappe di Isteresi e Uniformità Magnetica

Descrizione del prodotto:

Presentazione dello strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer, uno strumento all'avanguardia nella metrologia spintronica progettato per soddisfare le esigenze della ricerca e dello sviluppo avanzati nel settore. Questo prodotto innovativo offre capacità senza pari per la misurazione precisa ed efficiente delle proprietà magnetiche a livello di wafer.

Una delle caratteristiche principali di questo magnetometro per wafer all'avanguardia è l'eccezionale ripetibilità del campione, che vanta un livello di prestazioni superiore a 10 μm. Questo elevato livello di ripetibilità garantisce l'accuratezza e la coerenza dei risultati delle misurazioni, consentendo ai ricercatori di fare affidamento sui dati ottenuti con sicurezza.

Inoltre, il magnetometro per wafer è dotato di una tecnologia avanzata che garantisce un'uniformità del campo magnetico superiore a ±1% a Φ1 mm. Questa eccezionale uniformità su tutto il campo magnetico assicura che le misurazioni non siano influenzate dalle variazioni dell'intensità del campo, portando a un'analisi dei dati più affidabile e accurata.

Quando si tratta di efficienza dei test, lo strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer eccelle con una produttività di 12 WPH a ±1,3 T, consentendo una caratterizzazione rapida ed efficiente delle proprietà magnetiche. Con la capacità di misurare 9 siti su un wafer da 200 mm contemporaneamente, questo strumento consente ai ricercatori di semplificare il flusso di lavoro e aumentare la produttività.

I ricercatori apprezzeranno anche la flessibilità offerta dal magnetometro per wafer in termini di compatibilità delle dimensioni del campione. Questo strumento è progettato per funzionare con wafer fino a 12 pollici di dimensioni e supporta i test su frammenti, rendendolo versatile e adattabile a un'ampia gamma di tipi e dimensioni di campioni.

Un'altra caratteristica eccezionale dello strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer è la sua impressionante risoluzione dell'angolo di Kerr di 0,3 Mdeg (RMS). Questa alta risoluzione consente una misurazione dettagliata e accurata delle proprietà magnetiche, consentendo ai ricercatori di ottenere preziose informazioni sul comportamento dei materiali su scala nanometrica.

In conclusione, lo strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer è uno strumento potente che offre capacità senza pari per la misurazione precisa ed efficiente delle proprietà magnetiche a livello di wafer. Con le sue funzionalità avanzate, le prestazioni superiori e la versatilità, questo strumento è un must per i ricercatori che lavorano nel campo della metrologia spintronica.

Caratteristiche:

• Nome del prodotto: Strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer
• Dimensione del campione: compatibile con 12 pollici e inferiori, supporta i test su frammenti
• Uniformità del campo magnetico: migliore di ±1%@Φ1 mm
• Ripetibilità del campione: migliore di 10 μm
• Campo magnetico: verticale ±2,4 T; in-plane ±1,3 T
• Tempo di attività: 90%

Parametri tecnici:

Applicazioni:

Truth Instruments presenta il Wafer-MOKE, uno strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer all'avanguardia progettato per l'ispezione precisa ed efficiente di wafer magnetici a film sottile. Originario della CINA, questo prodotto innovativo offre prestazioni e accuratezza superiori nella misurazione delle proprietà magnetiche sui wafer.

Il Wafer-MOKE di Truth Instruments vanta un'eccezionale uniformità del campo magnetico, superando ±1% a Φ1 mm, garantendo risultati affidabili e coerenti. La sua risoluzione del campo magnetico è di prim'ordine con la regolazione a retroazione a circuito chiuso PID, raggiungendo un impressionante 0,01 mT per misurazioni precise.

Quando si tratta di efficienza dei test, il Wafer-MOKE eccelle con una velocità di test di 12 wafer all'ora a ±1,3 T e 9 misurazioni siti su un wafer da 200 mm. Questa capacità di elevata produttività lo rende ideale per ambienti di produzione ad alto volume che richiedono misurazioni rapide e accurate.

Per una maggiore flessibilità, il Wafer-MOKE offre una funzione EFEM opzionale, che consente agli utenti di personalizzare la propria configurazione in base a requisiti specifici. Questa adattabilità garantisce una perfetta integrazione in vari processi di ispezione dei wafer, migliorando la produttività complessiva.

Inoltre, la ripetibilità del campione del Wafer-MOKE è eccezionale, superando i 10 μm, garantendo risultati coerenti e affidabili in più test. Questa affidabilità è fondamentale per garantire il controllo qualità e soddisfare i rigorosi standard del settore.

In conclusione, il Truth Instruments Wafer-MOKE è la soluzione definitiva per gli scanner per wafer MOKE e le applicazioni di ispezione di wafer magnetici a film sottile. Le sue caratteristiche avanzate, la precisione e l'efficienza lo rendono uno strumento indispensabile per le industrie che richiedono misurazioni accurate e rapide del ciclo di isteresi a livello di wafer.