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MOKE Wafer Scanner EFEM Sistema di Misura Wafer per Mappe di Isteresi e Uniformità Magnetica

MOKE Wafer Scanner For Hysteresis And Magnetic Uniformity Maps Product Description: Introducing the Wafer-Level Hysteresis Loop Measurement Instrument, a cutting-edge tool in Spintronics Metrology designed to meet the demanding requirements of advanced research and development in the field. This innovative product offers unparalleled capabilities for precise and efficient measurement of magnetic properties at the wafer level. One of the key features of this state-of-the-art
Dettagli del prodotto
Evidenziare:

Scanner per wafer MOKE

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Sistema di Misura Wafer EFEM

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Scanner Wafer EFEM

Name: Scanner wafer
Kerr Angle Resolution: 0,3 MDEG (RMS)
EFEM: Opzionale
Sample Repeatability: Meglio di 10 μm
Magnetic Field: Verticale ± 2,4 t; In piano ± 1,3 t
Magnetic Field Resolution: Regolamento di feedback a circuito chiuso PID, 0,01 mt
Testing Functions: Misurazione del ciclo di isteresi non distruttivo di pile/dispositivi magnetici, estrazione automati
Uptime: 90%
Magnetic Field Uniformity: Meglio di ± 1%@φ1 mm

Proprietà di base

Marchio: Truth Instruments
Numero di modello: MOKE WABER

Proprietà Commerciali

Prezzo: Price Negotiable | Contact us for a detailed quote
Condizioni di pagamento: T/t
Descrizione di prodotto

MOKE Wafer Scanner per mappe di isteresi e uniformità magnetica

Descrizione del prodotto:

Presentazione dello strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer, uno strumento all'avanguardia nella metrologia spintronica progettato per soddisfare le esigenze della ricerca e dello sviluppo avanzati nel settore. Questo prodotto innovativo offre capacità senza pari per la misurazione precisa ed efficiente delle proprietà magnetiche a livello di wafer.

Una delle caratteristiche principali di questo magnetometro per wafer all'avanguardia è l'eccezionale ripetibilità del campione, che vanta un livello di prestazioni superiore a 10 μm. Questo elevato livello di ripetibilità garantisce l'accuratezza e la coerenza dei risultati delle misurazioni, consentendo ai ricercatori di fare affidamento sui dati ottenuti con sicurezza.

Inoltre, il magnetometro per wafer è dotato di una tecnologia avanzata che garantisce un'uniformità del campo magnetico superiore a ±1% a Φ1 mm. Questa eccezionale uniformità su tutto il campo magnetico assicura che le misurazioni non siano influenzate dalle variazioni dell'intensità del campo, portando a un'analisi dei dati più affidabile e accurata.

Quando si tratta di efficienza dei test, lo strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer eccelle con una produttività di 12 WPH a ±1,3 T, consentendo una caratterizzazione rapida ed efficiente delle proprietà magnetiche. Con la capacità di misurare 9 siti su un wafer da 200 mm contemporaneamente, questo strumento consente ai ricercatori di semplificare il flusso di lavoro e aumentare la produttività.

I ricercatori apprezzeranno anche la flessibilità offerta dal magnetometro per wafer in termini di compatibilità delle dimensioni del campione. Questo strumento è progettato per funzionare con wafer fino a 12 pollici di dimensioni e supporta i test su frammenti, rendendolo versatile e adattabile a un'ampia gamma di tipi e dimensioni di campioni.

Un'altra caratteristica eccezionale dello strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer è la sua impressionante risoluzione dell'angolo di Kerr di 0,3 Mdeg (RMS). Questa alta risoluzione consente una misurazione dettagliata e accurata delle proprietà magnetiche, consentendo ai ricercatori di ottenere preziose informazioni sul comportamento dei materiali su scala nanometrica.

In conclusione, lo strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer è uno strumento potente che offre capacità senza pari per la misurazione precisa ed efficiente delle proprietà magnetiche a livello di wafer. Con le sue funzionalità avanzate, le prestazioni superiori e la versatilità, questo strumento è un must per i ricercatori che lavorano nel campo della metrologia spintronica.

 

Caratteristiche:

  • Nome del prodotto: Strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer
  • Dimensione del campione: compatibile con 12 pollici e inferiori, supporta i test su frammenti
  • Uniformità del campo magnetico: migliore di ±1%@Φ1 mm
  • Ripetibilità del campione: migliore di 10 μm
  • Campo magnetico: verticale ±2,4 T; in-plane ±1,3 T
  • Tempo di attività: 90%
 

Parametri tecnici:

Efficienza dei test 12 WPH@±1,3 T / 9 misurazioni siti / wafer da 200 mm
Dimensione del campione Compatibile con 12 pollici e inferiori, supporta i test su frammenti
Risoluzione dell'angolo di Kerr 0,3 Mdeg (RMS)
Risoluzione del campo magnetico Regolazione a retroazione a circuito chiuso PID, 0,01 MT
Ripetibilità del campione Migliore di 10 μm
EFEM Opzionale
Tempo di attività 90%
Campo magnetico Verticale ±2,4 T; in-plane ±1,3 T
Uniformità del campo magnetico Migliore di ±1%@Φ1 mm
Funzioni di test Misurazione non distruttiva del ciclo di isteresi di stack/dispositivi magnetici, estrazione automatica delle informazioni sul ciclo di isteresi (strato libero e strato bloccato Hc, Hex, M (valore dell'angolo di Kerr)) e mappatura rapida della distribuzione delle caratteristiche magnetiche del wafer
 

Applicazioni:

Truth Instruments presenta il Wafer-MOKE, uno strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer all'avanguardia progettato per l'ispezione precisa ed efficiente di wafer magnetici a film sottile. Originario della CINA, questo prodotto innovativo offre prestazioni e accuratezza superiori nella misurazione delle proprietà magnetiche sui wafer.

Il Wafer-MOKE di Truth Instruments vanta un'eccezionale uniformità del campo magnetico, superando ±1% a Φ1 mm, garantendo risultati affidabili e coerenti. La sua risoluzione del campo magnetico è di prim'ordine con la regolazione a retroazione a circuito chiuso PID, raggiungendo un impressionante 0,01 MT per misurazioni precise.

Quando si tratta di efficienza dei test, il Wafer-MOKE eccelle con una velocità di test di 12 wafer all'ora a ±1,3 T e 9 misurazioni siti su un wafer da 200 mm. Questa capacità di elevata produttività lo rende ideale per ambienti di produzione ad alto volume che richiedono misurazioni rapide e accurate.

Per una maggiore flessibilità, il Wafer-MOKE offre una funzione EFEM opzionale, che consente agli utenti di personalizzare la propria configurazione in base a requisiti specifici. Questa adattabilità garantisce una perfetta integrazione in vari processi di ispezione dei wafer, migliorando la produttività complessiva.

Inoltre, la ripetibilità del campione del Wafer-MOKE è eccezionale, superando i 10 μm, garantendo risultati coerenti e affidabili in più test. Questa affidabilità è fondamentale per garantire il controllo qualità e soddisfare i rigorosi standard del settore.

In conclusione, il Truth Instruments Wafer-MOKE è la soluzione definitiva per gli scanner per wafer MOKE e le applicazioni di ispezione di wafer magnetici a film sottile. Le sue caratteristiche avanzate, la precisione e l'efficienza lo rendono uno strumento indispensabile per le industrie che richiedono misurazioni accurate e rapide del ciclo di isteresi a livello di wafer.

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