
MOKE Wafer Scanner EFEM Sistema di Misura Wafer per Mappe di Isteresi e Uniformità Magnetica
Scanner per wafer MOKE
,Sistema di Misura Wafer EFEM
,Scanner Wafer EFEM
Proprietà di base
Proprietà Commerciali
MOKE Wafer Scanner per mappe di isteresi e uniformità magnetica
Descrizione del prodotto:
Presentazione dello strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer, uno strumento all'avanguardia nella metrologia spintronica progettato per soddisfare le esigenze della ricerca e dello sviluppo avanzati nel settore. Questo prodotto innovativo offre capacità senza pari per la misurazione precisa ed efficiente delle proprietà magnetiche a livello di wafer.
Una delle caratteristiche principali di questo magnetometro per wafer all'avanguardia è l'eccezionale ripetibilità del campione, che vanta un livello di prestazioni superiore a 10 μm. Questo elevato livello di ripetibilità garantisce l'accuratezza e la coerenza dei risultati delle misurazioni, consentendo ai ricercatori di fare affidamento sui dati ottenuti con sicurezza.
Inoltre, il magnetometro per wafer è dotato di una tecnologia avanzata che garantisce un'uniformità del campo magnetico superiore a ±1% a Φ1 mm. Questa eccezionale uniformità su tutto il campo magnetico assicura che le misurazioni non siano influenzate dalle variazioni dell'intensità del campo, portando a un'analisi dei dati più affidabile e accurata.
Quando si tratta di efficienza dei test, lo strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer eccelle con una produttività di 12 WPH a ±1,3 T, consentendo una caratterizzazione rapida ed efficiente delle proprietà magnetiche. Con la capacità di misurare 9 siti su un wafer da 200 mm contemporaneamente, questo strumento consente ai ricercatori di semplificare il flusso di lavoro e aumentare la produttività.
I ricercatori apprezzeranno anche la flessibilità offerta dal magnetometro per wafer in termini di compatibilità delle dimensioni del campione. Questo strumento è progettato per funzionare con wafer fino a 12 pollici di dimensioni e supporta i test su frammenti, rendendolo versatile e adattabile a un'ampia gamma di tipi e dimensioni di campioni.
Un'altra caratteristica eccezionale dello strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer è la sua impressionante risoluzione dell'angolo di Kerr di 0,3 Mdeg (RMS). Questa alta risoluzione consente una misurazione dettagliata e accurata delle proprietà magnetiche, consentendo ai ricercatori di ottenere preziose informazioni sul comportamento dei materiali su scala nanometrica.
In conclusione, lo strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer è uno strumento potente che offre capacità senza pari per la misurazione precisa ed efficiente delle proprietà magnetiche a livello di wafer. Con le sue funzionalità avanzate, le prestazioni superiori e la versatilità, questo strumento è un must per i ricercatori che lavorano nel campo della metrologia spintronica.
Caratteristiche:
- Nome del prodotto: Strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer
- Dimensione del campione: compatibile con 12 pollici e inferiori, supporta i test su frammenti
- Uniformità del campo magnetico: migliore di ±1%@Φ1 mm
- Ripetibilità del campione: migliore di 10 μm
- Campo magnetico: verticale ±2,4 T; in-plane ±1,3 T
- Tempo di attività: 90%
Parametri tecnici:
Efficienza dei test | 12 WPH@±1,3 T / 9 misurazioni siti / wafer da 200 mm |
Dimensione del campione | Compatibile con 12 pollici e inferiori, supporta i test su frammenti |
Risoluzione dell'angolo di Kerr | 0,3 Mdeg (RMS) |
Risoluzione del campo magnetico | Regolazione a retroazione a circuito chiuso PID, 0,01 MT |
Ripetibilità del campione | Migliore di 10 μm |
EFEM | Opzionale |
Tempo di attività | 90% |
Campo magnetico | Verticale ±2,4 T; in-plane ±1,3 T |
Uniformità del campo magnetico | Migliore di ±1%@Φ1 mm |
Funzioni di test | Misurazione non distruttiva del ciclo di isteresi di stack/dispositivi magnetici, estrazione automatica delle informazioni sul ciclo di isteresi (strato libero e strato bloccato Hc, Hex, M (valore dell'angolo di Kerr)) e mappatura rapida della distribuzione delle caratteristiche magnetiche del wafer |
Applicazioni:
Truth Instruments presenta il Wafer-MOKE, uno strumento di misurazione del ciclo di isteresi a livello di wafer all'avanguardia progettato per l'ispezione precisa ed efficiente di wafer magnetici a film sottile. Originario della CINA, questo prodotto innovativo offre prestazioni e accuratezza superiori nella misurazione delle proprietà magnetiche sui wafer.
Il Wafer-MOKE di Truth Instruments vanta un'eccezionale uniformità del campo magnetico, superando ±1% a Φ1 mm, garantendo risultati affidabili e coerenti. La sua risoluzione del campo magnetico è di prim'ordine con la regolazione a retroazione a circuito chiuso PID, raggiungendo un impressionante 0,01 MT per misurazioni precise.
Quando si tratta di efficienza dei test, il Wafer-MOKE eccelle con una velocità di test di 12 wafer all'ora a ±1,3 T e 9 misurazioni siti su un wafer da 200 mm. Questa capacità di elevata produttività lo rende ideale per ambienti di produzione ad alto volume che richiedono misurazioni rapide e accurate.
Per una maggiore flessibilità, il Wafer-MOKE offre una funzione EFEM opzionale, che consente agli utenti di personalizzare la propria configurazione in base a requisiti specifici. Questa adattabilità garantisce una perfetta integrazione in vari processi di ispezione dei wafer, migliorando la produttività complessiva.
Inoltre, la ripetibilità del campione del Wafer-MOKE è eccezionale, superando i 10 μm, garantendo risultati coerenti e affidabili in più test. Questa affidabilità è fondamentale per garantire il controllo qualità e soddisfare i rigorosi standard del settore.
In conclusione, il Truth Instruments Wafer-MOKE è la soluzione definitiva per gli scanner per wafer MOKE e le applicazioni di ispezione di wafer magnetici a film sottile. Le sue caratteristiche avanzate, la precisione e l'efficienza lo rendono uno strumento indispensabile per le industrie che richiedono misurazioni accurate e rapide del ciclo di isteresi a livello di wafer.