MOKE Wafer Scanner EFEM Wafer Messsystem für Hysterese und Magnetische Einheitlichkeitskarten

Produktbeschreibung:

Wir präsentieren das Wafer-Hysterese-Schleifenmessgerät, ein hochmodernes Werkzeug in der Spintronik-Messtechnik, das entwickelt wurde, um die anspruchsvollen Anforderungen der fortschrittlichen Forschung und Entwicklung in diesem Bereich zu erfüllen. Dieses innovative Produkt bietet beispiellose Möglichkeiten für die präzise und effiziente Messung magnetischer Eigenschaften auf Wafer-Ebene.

Eines der Hauptmerkmale dieses hochmodernen Wafer-Magnetometers ist seine außergewöhnliche Probenwiederholbarkeit, mit einer Leistung von Besser als 10 μm. Dieses hohe Maß an Wiederholbarkeit gewährleistet die Genauigkeit und Konsistenz der Messergebnisse, so dass sich Forscher auf die gewonnenen Daten verlassen können.

Darüber hinaus ist das Wafer-Magnetometer mit fortschrittlicher Technologie ausgestattet, die eine Magnetfeldhomogenität von Besser als ±1 % bei Φ1 mm gewährleistet. Diese außergewöhnliche Homogenität über das Magnetfeld hinweg stellt sicher, dass Messungen nicht durch Variationen der Feldstärke beeinflusst werden, was zu zuverlässigeren und genaueren Datenanalysen führt.

In Bezug auf die Prüfeffizienz zeichnet sich das Wafer-Hysterese-Schleifenmessgerät durch einen Durchsatz von 12 WPH bei ±1,3 T aus, was eine schnelle und effiziente Charakterisierung der magnetischen Eigenschaften ermöglicht. Mit der Fähigkeit, 9 Stellen auf einem 200-mm-Wafer gleichzeitig zu messen, ermöglicht dieses Instrument den Forschern, ihren Arbeitsablauf zu rationalisieren und die Produktivität zu steigern.

Forscher werden auch die Flexibilität des Wafer-Magnetometers in Bezug auf die Probenrößekompatibilität zu schätzen wissen. Dieses Instrument ist für die Arbeit mit Wafern bis zu 12 Zoll Größe ausgelegt und unterstützt Fragmenttests, wodurch es vielseitig und an eine Vielzahl von Probentypen und -größen anpassbar ist.

Ein weiteres herausragendes Merkmal des Wafer-Hysterese-Schleifenmessgeräts ist seine beeindruckende Kerr-Winkel-Auflösung von 0,3 Mdeg (RMS). Diese hohe Auflösung ermöglicht eine detaillierte und genaue Messung der magnetischen Eigenschaften, so dass Forscher wertvolle Einblicke in das Verhalten von Materialien im Nanobereich gewinnen können.

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass das Wafer-Hysterese-Schleifenmessgerät ein leistungsstarkes Werkzeug ist, das unübertroffene Möglichkeiten für die präzise und effiziente Messung magnetischer Eigenschaften auf Wafer-Ebene bietet. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen, der überlegenen Leistung und der Vielseitigkeit ist dieses Instrument ein Muss für Forscher, die auf dem Gebiet der Spintronik-Messtechnik arbeiten.

Merkmale:

• Produktname: Wafer-Hysterese-Schleifenmessgerät
• Probengröße: Kompatibel mit 12 Zoll und kleiner, unterstützt Fragmenttests
• Magnetfeldhomogenität: Besser als ±1 % bei Φ1 mm
• Probenwiederholbarkeit: Besser als 10 μm
• Magnetfeld: Vertikal ±2,4 T; In-Plane ±1,3 T
• Betriebszeit: 90 %

Technische Parameter:

Anwendungen:

Truth Instruments stellt das Wafer-MOKE vor, ein hochmodernes Wafer-Hysterese-Schleifenmessgerät, das für die präzise und effiziente Inspektion von magnetischen Dünnschichtwafern entwickelt wurde. Dieses innovative Produkt stammt aus CHINA und bietet überlegene Leistung und Genauigkeit bei der Messung magnetischer Eigenschaften auf Wafern.

Das Wafer-MOKE von Truth Instruments zeichnet sich durch eine außergewöhnliche Magnetfeldhomogenität aus, die ±1 % bei Φ1 mm übertrifft und zuverlässige und konsistente Ergebnisse gewährleistet. Seine Magnetfeldauflösung ist erstklassig mit PID-Regelung mit geschlossenem Regelkreis und erreicht beeindruckende 0,01 MT für präzise Messungen.

In Bezug auf die Prüfeffizienz zeichnet sich das Wafer-MOKE durch eine Prüfgeschwindigkeit von 12 Wafern pro Stunde bei ±1,3 T und 9 Messstellen auf einem 200-mm-Wafer aus. Diese hohe Durchsatzfähigkeit macht es ideal für Produktionsumgebungen mit hohem Volumen, die schnelle und genaue Messungen erfordern.

Für zusätzliche Flexibilität bietet das Wafer-MOKE eine optionale EFEM-Funktion, mit der Benutzer ihr Setup an spezifische Anforderungen anpassen können. Diese Anpassungsfähigkeit gewährleistet eine nahtlose Integration in verschiedene Wafer-Inspektionsprozesse und erhöht die Gesamtproduktivität.

Darüber hinaus ist die Probenwiederholbarkeit des Wafer-MOKE außergewöhnlich und übertrifft 10 μm, was konsistente und zuverlässige Ergebnisse über mehrere Tests hinweg garantiert. Diese Zuverlässigkeit ist entscheidend, um die Qualitätskontrolle zu gewährleisten und strenge Industriestandards zu erfüllen.

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass das Truth Instruments Wafer-MOKE die ultimative Lösung für MOKE-Wafer-Scanner und Dünnschicht-Magnetwafer-Inspektionsanwendungen ist. Seine fortschrittlichen Funktionen, Präzision und Effizienz machen es zu einem unverzichtbaren Instrument für Branchen, die genaue und schnelle Hysterese-Schleifenmessungen auf Wafer-Ebene benötigen.