English
Français
Deutsch
Italiano
Русский
Español
Português
Nederlandse
Ελληνικά
日本語
한국
Polski
বাংলা
ไทย
Tiếng Việt
العربية
हिन्दी
Türkçe
Bahasa Indonesia
اسکنر وافرهای MOKE EFEM سیستم اندازه گیری وافرهای هیسترسیس و نقشه های یکسانی مغناطیسی
اسکنر وافرهاي MOKE,سیستم EFEM Wafer Measurement,اسکنر Wafer EFEM
,EFEM Wafer Measurement System
,EFEM Wafer Scanner
ویژگی های اساسی
املاک تجاری
اسکنر ویفر MOKE برای نقشه‌های هیسترزیس و یکنواختی مغناطیسی
توضیحات محصول:
معرفی ابزار اندازه‌گیری حلقه هیسترزیس در سطح ویفر، یک ابزار پیشرفته در متولوژی اسپینترونیک که برای پاسخگویی به نیازهای سختگیرانه تحقیق و توسعه پیشرفته در این زمینه طراحی شده است. این محصول نوآورانه قابلیت‌های بی‌نظیری را برای اندازه‌گیری دقیق و کارآمد خواص مغناطیسی در سطح ویفر ارائه می‌دهد.
یکی از ویژگی‌های کلیدی این مگنتومتر ویفر پیشرفته، تکرارپذیری استثنایی نمونه آن است که عملکردی بهتر از 10 میکرومتر دارد. این سطح بالای تکرارپذیری، دقت و سازگاری نتایج اندازه‌گیری را تضمین می‌کند و به محققان اجازه می‌دهد تا با اطمینان به داده‌های به‌دست‌آمده تکیه کنند.
علاوه بر این، مگنتومتر ویفر به فناوری پیشرفته‌ای مجهز شده است که یکنواختی میدان مغناطیسی را بهتر از ±1% در Φ1 میلی‌متر تضمین می‌کند. این یکنواختی استثنایی در سراسر میدان مغناطیسی تضمین می‌کند که اندازه‌گیری‌ها تحت تأثیر تغییرات در قدرت میدان قرار نمی‌گیرند و منجر به تجزیه و تحلیل داده‌های قابل اطمینان‌تر و دقیق‌تر می‌شود.
هنگامی که صحبت از راندمان آزمایش می‌شود، ابزار اندازه‌گیری حلقه هیسترزیس در سطح ویفر با توان عملیاتی 12 WPH در ±1.3 T برتری دارد و امکان مشخصه‌سازی سریع و کارآمد خواص مغناطیسی را فراهم می‌کند. با توانایی اندازه‌گیری 9 سایت روی یک ویفر 200 میلی‌متری به طور همزمان، این ابزار محققان را قادر می‌سازد تا گردش کار خود را ساده کرده و بهره‌وری را افزایش دهند.
محققان همچنین از انعطاف‌پذیری ارائه شده توسط مگنتومتر ویفر از نظر سازگاری اندازه نمونه قدردانی خواهند کرد. این ابزار برای کار با ویفرهایی تا 12 اینچ طراحی شده است و از آزمایش قطعات پشتیبانی می‌کند و آن را برای طیف گسترده‌ای از انواع و اندازه‌های نمونه تطبیق‌پذیر می‌کند.
یکی دیگر از ویژگی‌های برجسته ابزار اندازه‌گیری حلقه هیسترزیس در سطح ویفر، وضوح زاویه Kerr چشمگیر آن 0.3 Mdeg (RMS) است. این وضوح بالا امکان اندازه‌گیری دقیق و دقیق خواص مغناطیسی را فراهم می‌کند و محققان را قادر می‌سازد تا بینش‌های ارزشمندی در مورد رفتار مواد در مقیاس نانو به دست آورند.
در نتیجه، ابزار اندازه‌گیری حلقه هیسترزیس در سطح ویفر یک ابزار قدرتمند است که قابلیت‌های بی‌نظیری را برای اندازه‌گیری دقیق و کارآمد خواص مغناطیسی در سطح ویفر ارائه می‌دهد. این ابزار با ویژگی‌های پیشرفته، عملکرد برتر و تطبیق‌پذیری خود، برای محققانی که در زمینه متولوژی اسپینترونیک کار می‌کنند، ضروری است.
ویژگی‌ها:
- نام محصول: ابزار اندازه‌گیری حلقه هیسترزیس در سطح ویفر
- اندازه نمونه: سازگار با 12 اینچ و کمتر، پشتیبانی از آزمایش قطعات
- یکنواختی میدان مغناطیسی: بهتر از ±1%@Φ1 میلی‌متر
- تکرارپذیری نمونه: بهتر از 10 میکرومتر
- میدان مغناطیسی: عمودی ±2.4 T؛ صفحه ±1.3 T
- زمان کارکرد: 90%
پارامترهای فنی:
| راندمان آزمایش | 12 WPH@±1.3 T / اندازه‌گیری 9 سایت / ویفر 200 میلی‌متری |
| اندازه نمونه | سازگار با 12 اینچ و کمتر، پشتیبانی از آزمایش قطعات |
| وضوح زاویه Kerr | 0.3 Mdeg (RMS) |
| وضوح میدان مغناطیسی | تنظیم حلقه بسته PID، 0.01 MT |
| تکرارپذیری نمونه | بهتر از 10 میکرومتر |
| EFEM | اختیاری |
| زمان کارکرد | 90% |
| میدان مغناطیسی | عمودی ±2.4 T؛ صفحه ±1.3 T |
| یکنواختی میدان مغناطیسی | بهتر از ±1%@Φ1 میلی‌متر |
| عملکردهای آزمایش | اندازه‌گیری غیر مخرب حلقه هیسترزیس از پشته‌ها/دستگاه‌های مغناطیسی، استخراج خودکار اطلاعات حلقه هیسترزیس (لایه آزاد و لایه پین شده Hc، Hex، M (مقدار زاویه Kerr)) و نقشه‌برداری سریع توزیع مشخصه مغناطیسی ویفر |
کاربردها:
Truth Instruments Wafer-MOKE را معرفی می‌کند، یک ابزار اندازه‌گیری حلقه هیسترزیس در سطح ویفر پیشرفته که برای بازرسی دقیق و کارآمد ویفر مغناطیسی لایه نازک طراحی شده است. این محصول نوآورانه که از چین منشأ می‌گیرد، عملکرد و دقت بالاتری را در اندازه‌گیری خواص مغناطیسی روی ویفرها ارائه می‌دهد.
Wafer-MOKE از Truth Instruments دارای یکنواختی میدان مغناطیسی استثنایی است که از ±1% در Φ1 میلی‌متر فراتر می‌رود و نتایج قابل اعتماد و ثابتی را تضمین می‌کند. وضوح میدان مغناطیسی آن با تنظیم حلقه بسته PID، با دستیابی به 0.01 MT چشمگیر برای اندازه‌گیری‌های دقیق، درجه یک است.
هنگامی که صحبت از راندمان آزمایش می‌شود، Wafer-MOKE با سرعت آزمایش 12 ویفر در ساعت در ±1.3 T و اندازه‌گیری 9 سایت روی یک ویفر 200 میلی‌متری برتری دارد. این قابلیت توان عملیاتی بالا آن را برای محیط‌های تولید با حجم بالا که به اندازه‌گیری‌های سریع و دقیق نیاز دارند، ایده‌آل می‌کند.
برای انعطاف‌پذیری بیشتر، Wafer-MOKE یک ویژگی EFEM اختیاری ارائه می‌دهد که به کاربران امکان می‌دهد تنظیمات خود را بر اساس الزامات خاص سفارشی کنند. این قابلیت انطباق، ادغام یکپارچه در فرآیندهای مختلف بازرسی ویفر را تضمین می‌کند و بهره‌وری کلی را افزایش می‌دهد.
علاوه بر این، تکرارپذیری نمونه Wafer-MOKE استثنایی است و از 10 میکرومتر فراتر می‌رود و نتایج ثابت و قابل اعتمادی را در چندین آزمایش تضمین می‌کند. این قابلیت اطمینان برای اطمینان از کنترل کیفیت و رعایت استانداردهای سختگیرانه صنعت بسیار مهم است.
در نتیجه، Truth Instruments Wafer-MOKE راه‌حل نهایی برای اسکنرهای ویفر MOKE و برنامه‌های بازرسی ویفر مغناطیسی لایه نازک است. ویژگی‌های پیشرفته، دقت و کارایی آن، آن را به یک ابزار ضروری برای صنایعی تبدیل می‌کند که به اندازه‌گیری‌های دقیق و سریع حلقه هیسترزیس در سطح ویفر نیاز دارند.
