logo

ماسح الموجات MOKE EFEM نظام قياس الموجات لخرائط الهستيريس والتكافل المغناطيسي

MOKE Wafer Scanner For Hysteresis And Magnetic Uniformity Maps Product Description: Introducing the Wafer-Level Hysteresis Loop Measurement Instrument, a cutting-edge tool in Spintronics Metrology designed to meet the demanding requirements of advanced research and development in the field. This innovative product offers unparalleled capabilities for precise and efficient measurement of magnetic properties at the wafer level. One of the key features of this state-of-the-art
تفاصيل المنتج
إبراز:

ماسح لوحة MOKE,نظام EFEM لقياس المسامير,جهاز EFEM للفحص

,

EFEM Wafer Measurement System

,

EFEM Wafer Scanner

Name: ماسح الويفر
Kerr Angle Resolution: 0.3 MDEG (RMS)
EFEM: خياري
Sample Repeatability: أفضل من 10 ميكرون
Magnetic Field: عمودي ± 2.4 t ؛ في الطائرة ± 1.3 طن
Magnetic Field Resolution: تنظيم ردود الفعل الحلقة المغلقة PID ، 0.01 طن متري
Testing Functions: قياس حلقة التباطؤ غير التدمير قياس المداخن/الأجهزة المغناطيسية ، والاستخراج التلقائي لمعلومات حلقة ا
Uptime: 90 ٪
Magnetic Field Uniformity: أفضل من ± 1 ٪ φ1 مم

الخصائص الأساسية

الاسم التجاري: Truth Instruments
رقم الطراز: رقاقة

تداول العقارات

سعر: Price Negotiable | Contact us for a detailed quote
شروط الدفع: ر/ر
وصف المنتج

ماسح رقائق MOKE لخريطة التخلف المغناطيسي والتوحيد

وصف المنتج:

نقدم لكم جهاز قياس حلقة التخلف المغناطيسي على مستوى الرقاقة، وهو أداة متطورة في قياسات علم الإلكترونيات الدورانية مصممة لتلبية المتطلبات الصارمة للبحث والتطوير المتقدم في هذا المجال. يوفر هذا المنتج المبتكر قدرات لا مثيل لها للقياس الدقيق والفعال للخصائص المغناطيسية على مستوى الرقاقة.

تتمثل إحدى الميزات الرئيسية لمقياس المغناطيسية المتطور هذا على مستوى الرقاقة في تكرار العينة الاستثنائي، والذي يتميز بمستوى أداء أفضل من 10 ميكرومتر. يضمن هذا المستوى العالي من التكرار دقة واتساق نتائج القياس، مما يسمح للباحثين بالاعتماد على البيانات التي تم الحصول عليها بثقة.

علاوة على ذلك، تم تجهيز مقياس المغناطيسية على مستوى الرقاقة بتقنية متقدمة تضمن توحيد المجال المغناطيسي بأفضل من ±1% عند Φ1 مم. يضمن هذا التوحيد الاستثنائي عبر المجال المغناطيسي أن القياسات لا تتأثر بالاختلافات في قوة المجال، مما يؤدي إلى تحليل بيانات أكثر موثوقية ودقة.

عندما يتعلق الأمر بكفاءة الاختبار، يتفوق جهاز قياس حلقة التخلف المغناطيسي على مستوى الرقاقة بمعدل إنتاجية يبلغ 12 WPH عند ±1.3 T، مما يسمح بالتمييز السريع والفعال للخصائص المغناطيسية. مع القدرة على قياس 9 مواقع على رقاقة 200 مم في وقت واحد، يمكّن هذا الجهاز الباحثين من تبسيط سير عملهم وزيادة الإنتاجية.

سيقدر الباحثون أيضًا المرونة التي يوفرها مقياس المغناطيسية على مستوى الرقاقة من حيث توافق حجم العينة. تم تصميم هذا الجهاز للعمل مع الرقائق التي يصل حجمها إلى 12 بوصة ويدعم اختبار الأجزاء، مما يجعله متعدد الاستخدامات وقابلاً للتكيف مع مجموعة واسعة من أنواع وأحجام العينات.

ميزة أخرى بارزة لجهاز قياس حلقة التخلف المغناطيسي على مستوى الرقاقة هي دقة زاوية كير الرائعة البالغة 0.3 Mdeg (RMS). تسمح هذه الدقة العالية بالقياس التفصيلي والدقيق للخصائص المغناطيسية، مما يمكّن الباحثين من اكتساب رؤى قيمة حول سلوك المواد على المستوى النانوي.

في الختام، يعد جهاز قياس حلقة التخلف المغناطيسي على مستوى الرقاقة أداة قوية توفر قدرات لا مثيل لها للقياس الدقيق والفعال للخصائص المغناطيسية على مستوى الرقاقة. بفضل ميزاته المتقدمة وأدائه الفائق وتعدد استخداماته، يعد هذا الجهاز ضروريًا للباحثين الذين يعملون في مجال قياسات علم الإلكترونيات الدورانية.

 

الميزات:

  • اسم المنتج: جهاز قياس حلقة التخلف المغناطيسي على مستوى الرقاقة
  • حجم العينة: متوافق مع 12 بوصة وما دونها، ويدعم اختبار الأجزاء
  • توحيد المجال المغناطيسي: أفضل من ±1%@Φ1 مم
  • تكرار العينة: أفضل من 10 ميكرومتر
  • المجال المغناطيسي: رأسي ±2.4 T؛ في المستوى ±1.3 T
  • وقت التشغيل: 90%
 

المعايير الفنية:

كفاءة الاختبار 12 WPH@±1.3 T / قياس 9 مواقع / رقاقة 200 مم
حجم العينة متوافق مع 12 بوصة وما دونها، ويدعم اختبار الأجزاء
دقة زاوية كير 0.3 Mdeg (RMS)
دقة المجال المغناطيسي تنظيم التغذية الراجعة للحلقة المغلقة PID، 0.01 MT
تكرار العينة أفضل من 10 ميكرومتر
EFEM اختياري
وقت التشغيل 90%
المجال المغناطيسي رأسي ±2.4 T؛ في المستوى ±1.3 T
توحيد المجال المغناطيسي أفضل من ±1%@Φ1 مم
وظائف الاختبار قياس حلقة التخلف المغناطيسي غير المدمر للمجموعات/الأجهزة المغناطيسية، والاستخراج التلقائي لمعلومات حلقة التخلف المغناطيسي (طبقة حرة وطبقة مثبتة Hc، Hex، M (قيمة زاوية كير))، والرسم السريع لتوزيع الخصائص المغناطيسية للرقاقة
 

التطبيقات:

تقدم Truth Instruments جهاز Wafer-MOKE، وهو جهاز قياس حلقة التخلف المغناطيسي على مستوى الرقاقة المتطور المصمم لفحص الرقائق المغناطيسية الدقيقة والفعال. نشأ هذا المنتج المبتكر من الصين، ويوفر أداءً ودقة فائقين في قياس الخصائص المغناطيسية على الرقائق.

يتميز جهاز Wafer-MOKE من Truth Instruments بتوحيد مجال مغناطيسي استثنائي، يتجاوز ±1% عند Φ1 مم، مما يضمن نتائج موثوقة ومتسقة. تبلغ دقة المجال المغناطيسي فيه ذروتها من خلال تنظيم التغذية الراجعة للحلقة المغلقة PID، مما يحقق 0.01 MT مثيرًا للإعجاب للقياسات الدقيقة.

عندما يتعلق الأمر بكفاءة الاختبار، يتفوق جهاز Wafer-MOKE بسرعة اختبار تبلغ 12 رقاقة في الساعة عند ±1.3 T وقياس 9 مواقع على رقاقة 200 مم. تجعل قدرة الإنتاجية العالية هذه مثالية لبيئات الإنتاج ذات الحجم الكبير التي تتطلب قياسات سريعة ودقيقة.

لمزيد من المرونة، يوفر جهاز Wafer-MOKE ميزة EFEM اختيارية، مما يسمح للمستخدمين بتخصيص إعداداتهم بناءً على متطلبات محددة. يضمن هذا التكيف التكامل السلس في عمليات فحص الرقائق المختلفة، مما يعزز الإنتاجية الإجمالية.

علاوة على ذلك، فإن تكرار العينة لجهاز Wafer-MOKE استثنائي، ويتجاوز 10 ميكرومتر، مما يضمن نتائج متسقة وموثوقة عبر اختبارات متعددة. تعد هذه الموثوقية أمرًا بالغ الأهمية لضمان مراقبة الجودة وتلبية معايير الصناعة الصارمة.

في الختام، يعد جهاز Truth Instruments Wafer-MOKE هو الحل الأمثل لأجهزة مسح الرقائق MOKE وتطبيقات فحص الرقائق المغناطيسية الرقيقة. إن ميزاته المتقدمة ودقته وكفاءته تجعله أداة لا غنى عنها للصناعات التي تتطلب قياسات دقيقة وسريعة لحلقة التخلف المغناطيسي على مستوى الرقاقة.

أرسل استفسارًا

احصل على عرض أسعار سريع