Sistema de medición no destructivo de la oblea con instrumento de bucle de histeresis de nivel de oblea

Name: Sistema de medición no destructivo de la oblea con instrumento de bucle de histeresis de nivel de oblea
Brand: Truth Instruments Co., Ltd.
SKU: Oblea
Availability: InStock

Wafer-Level Hysteresis Loop Measurement Instrument Product Introduction Using polar/longitudinal magneto-optical Kerr effects (MOKE), this instrument rapidly and globally detects the magnetism of wafer films. Non-contact measurement avoids wafer damage and is suitable for post-patterning sample testing in spin chip production. It provides a vertical magnetic field of up to 2.5 T and an in-plane magnetic field of up to 1.4 T, with strong magnetic fields inducing free and

Etiquetas:

Microscopio de efecto Kerr óptico magnético

Microscopio de alta resolución

Sistema de imágenes de Kerr

Detalles del producto

Resaltar:

Instrumento de bucle de histeresis a nivel de oblea

Sistema de medición de obleas no destructivas

Instrumento de bucle de histeresis no destructiva

Name: Instrumento de bucle de histéresis

Uptime: 90%

Magnetic Field Uniformity: Mejor que ± 1%@φ1 mm

EFEM: Opcional

Sample Size: Compatible con 12 pulgadas y debajo, admite pruebas de fragmentos

Magnetic Field Resolution: Regulación de retroalimentación de circuito cerrado PID, 0.01 MT

Testing Functions: Medición del bucle de histéresis no destructiva de pilas/dispositivos magnéticos, extracción automát

Testing Efficiency: 12 wph@ utilizar la medición de la medición de los sitios /200 mm

Sample Repeatability: Mejor de 10 μm

Propiedades básicas

Lugar de origen: PORCELANA

Nombre de la marca: Truth Instruments

Número de modelo: Oblea

Propiedades comerciales

Precio: Price Negotiable | Contact us for a detailed quote

Condiciones de pago: T/T

Descripción de producto

Instrumento de medición del bucle de histeresis a nivel de oblea

Introducción del producto

Utilizando efectos de Kerr magnetoópticos polares/longitudinales (MOKE), este instrumento detecta rápidamente y globalmente el magnetismo de las películas de obleas.La medición sin contacto evita el daño de la oblea y es adecuada para el ensayo de muestras después del patrón en la producción de chips de giroProporciona un campo magnético vertical de hasta 2,5 T y un campo magnético en el plano de hasta 1,4 T.con campos magnéticos fuertes que inducen la captura de capas libres y de referencia en pilas de películas de memoria aleatoria de acceso magnético (MRAM) anisotrópicas verticalmenteLa sensibilidad de detección de Kerr ultra alta permite la caracterización de cambios magnéticos sutiles en diferentes capas de película.La combinación de la sondación láser punto por punto con imágenes de escaneo permite la creación rápida de mapas globales de características magnéticas de las obleas, ayudando a la optimización del proceso y el control del rendimiento.

Rendimiento del equipo

Indicador de rendimiento del equipo	Descripción
Tamaño de la muestra	Compatible con 12 pulgadas y menos, admite pruebas de fragmentos
El campo magnético	La velocidad máxima de la unidad de ensayo será de ± 1 km/h.
Resolución del campo magnético	Regulación de retroalimentación de circuito cerrado PID, 0,01 mT
Uniformidad del campo magnético	Mejor que ± 1%@Φ1 mm
Resolución del ángulo de Kerr	0.3 mdeg (RMS)
Prueba de la eficacia	12 WPH@±1,3 T /9 puntos de medición/200 mm de oblea
Repetibilidad de la muestra	Mejores que 10 μm
Tiempo de actividad	El 90%
EFEM	No se puede optar
Funciones de ensayo	medición no destructiva del bucle de histéresis de las capas/dispositivos de película magnética, extracción automática de la información del bucle de histéresis (capa libre y capa fijada Hc, Hex, M (valor del ángulo de Kerr),y el mapeo rápido de la distribución de las características magnéticas de las obleas