Instrumento de Loop de Histerese em Nível de Bolacha Sistema de Medição de Bolacha Não Destrutivo

Name: Instrumento de Loop de Histerese em Nível de Bolacha Sistema de Medição de Bolacha Não Destrutivo
Brand: Truth Instruments Co., Ltd.
SKU: Wafer-Moke
Availability: InStock

Wafer-Level Hysteresis Loop Measurement Instrument Product Introduction Using polar/longitudinal magneto-optical Kerr effects (MOKE), this instrument rapidly and globally detects the magnetism of wafer films. Non-contact measurement avoids wafer damage and is suitable for post-patterning sample testing in spin chip production. It provides a vertical magnetic field of up to 2.5 T and an in-plane magnetic field of up to 1.4 T, with strong magnetic fields inducing free and

Etiquetas:

Microscópio de Efeito Kerr Magneto Óptico

Microscópio de Alta Resolução

Sistema de Imagem Kerr

Detalhes do produto

Destacar:

Instrumento de Loop de Histerese em Nível de Bolacha

Sistema de Medição de Bolacha Não Destrutivo

Instrumento de Loop de Histerese Não Destrutivo

Name: Instrumento de loop de histerese

Uptime: 90%

Magnetic Field Uniformity: Melhor que ± 1%a φ1 mm

EFEM: Opcional

Sample Size: Compatível com 12 polegadas e abaixo, suporta testes de fragmento

Magnetic Field Resolution: Regulação de feedback de circuito fechado PID, 0,01 mt

Testing Functions: Medição de loop de histerese não destrutiva de pilhas/dispositivos magnéticos, extração automática d

Testing Efficiency: 12 wph@daDunes

Sample Repeatability: Melhor que 10 μm

Propriedades básicas

Lugar de origem: CHINA

Nome da marca: Truth Instruments

Número do modelo: Wafer-Moke

Propriedades comerciais

Preço: Price Negotiable | Contact us for a detailed quote

Condições de pagamento: T/T.

Descrição do produto

Instrumento de medição do circuito de histerese a nível de wafer

Introdução ao produto

Usando efeitos magnéto-ópticos de Kerr polares/longitudinais (MOKE), este instrumento detecta rapidamente e globalmente o magnetismo de filmes de wafer.A medição sem contato evita danos na wafer e é adequada para testes de amostras após padronização na produção de chips de rotação- fornece um campo magnético vertical de até 2,5 T e um campo magnético no plano de até 1,4 T,com campos magnéticos fortes que induzem a reviravolta de camadas livres e de referência em pilhas de filme de memória aleatória de acesso magnético (MRAM) anisotrópica verticalmenteA sensibilidade de detecção de Kerr ultra-alta permite a caracterização de mudanças magnéticas sutis em diferentes camadas de filme.A combinação de sondagem laser ponto a ponto com imagens de digitalização permite a criação rápida de mapas globais de características magnéticas de wafer, auxiliando na otimização dos processos e no controlo do rendimento.

Desempenho do equipamento

Indicador de desempenho do equipamento	Descrição
Tamanho da amostra	Compatível com 12 polegadas e abaixo, suporta testes de fragmentos
Campo magnético	Vertical ± 2,4 T; In-plane ± 1,3 T
Resolução do campo magnético	Regulação de feedback de circuito fechado PID, 0,01 mT
Uniformidade do campo magnético	Melhor que ± 1%@Φ1 mm
Resolução do ângulo de Kerr	0.3 mdeg (RMS)
Teste de eficácia	12 WPH@±1,3 T /9 locais de medição/200 mm de wafer
Repetibilidade da amostra	Melhor que 10 μm
Tempo de funcionamento	90%
EFEM	Opcional
Funções de ensaio	Medição não destrutiva do circuito de histerese de filmes magnéticos, extração automática das informações do circuito de histerese (camada livre e camada fixa Hc, Hex, M (valor do ângulo de Kerr)e mapeamento rápido da distribuição das características magnéticas das placas