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वेफर स्तर हिस्टैरिसीस लूप इंस्ट्रूमेंट नॉन विनाशकारी वेफर माप प्रणाली
वेफर लेवल हिस्टैरिसीस लूप इंस्ट्रूमेंट
,नॉन विनाशकारी वेफर माप प्रणाली
,गैर विनाशकारी हिस्टैरिसीस लूप इंस्ट्रूमेंट
मूल गुण
व्यापारिक संपत्तियाँ
ध्रुवीय/लंबाईगत मैग्नेटो-ऑप्टिकल केर प्रभाव (MOKE) का उपयोग करके, यह उपकरण वेफर फिल्मों के चुंबकत्व का तेजी से और वैश्विक रूप से पता लगाता है।गैर संपर्क माप वेफर क्षति से बचाता है और स्पिन चिप उत्पादन में पैटर्निंग के बाद नमूना परीक्षण के लिए उपयुक्त हैयह 2.5 T तक का ऊर्ध्वाधर चुंबकीय क्षेत्र और 1.4 T तक का इन-प्लेन चुंबकीय क्षेत्र प्रदान करता है,मजबूत चुंबकीय क्षेत्रों के साथ मुक्त और संदर्भ परत लंबवत anisotropic चुंबकीय पहुँच यादृच्छिक स्मृति (MRAM) फिल्म ढेर में flipping प्रेरितअल्ट्रा-उच्च केर डिटेक्शन संवेदनशीलता विभिन्न फिल्म परतों में सूक्ष्म चुंबकीय परिवर्तनों की एकल-समय विशेषता की अनुमति देती है।लेजर पॉइंट-बाय-पॉइंट जांच को स्कैनिंग इमेजिंग के साथ जोड़कर वैश्विक वेफर चुंबकीय विशेषता मानचित्रों का त्वरित निर्माण संभव बनाता है, प्रक्रिया अनुकूलन और उपज नियंत्रण में सहायता करता है।
| उपकरण प्रदर्शन सूचक | विवरण |
|---|---|
| नमूना का आकार | 12 इंच और नीचे के साथ संगत, टुकड़ा परीक्षण का समर्थन करता है |
| चुंबकीय क्षेत्र | ऊर्ध्वाधर ±2.4 T; इन-प्लेन ±1.3 T |
| चुंबकीय क्षेत्र का संकल्प | पीआईडी बंद-लूप फीडबैक विनियमन, 0.01 एमटी |
| चुंबकीय क्षेत्र की एकरूपता | ±1%@Φ1 मिमी से बेहतर |
| केर कोण संकल्प | 0.3 mdeg (RMS) |
| परीक्षण प्रभावशीलता | 12 WPH@±1.3 T /9 साइट माप/200 मिमी वेफर |
| नमूना दोहराव | 10 μm से बेहतर |
| सक्रिय समय | ९०% |
| ईएफईएम | वैकल्पिक |
| परीक्षण कार्य | चुंबकीय फिल्म स्टैक/उपकरणों का गैर-विनाशकारी हिस्टेरिसिस लूप माप, हिस्टेरिसिस लूप की जानकारी का स्वतः निष्कर्षण (मुक्त परत और पिन की गई परत Hc, Hex, M (Kerr कोण मान)),और वेफर चुंबकीय विशेषता वितरण का त्वरित मानचित्रण |
ऊर्ध्वाधर एमआरएएम फिल्म स्टैक के हाइस्टेरिसिस लूप माप के परिणाम
प्लेन में एनिज़ोट्रोपिक एमटीजे फिल्म स्टैक के हाइस्टेरिसिस लूप माप के परिणाम
स्कैनिंग के अलग-अलग तरीके
चुंबकीय क्षेत्र 12 इंच ऊर्ध्वाधर एनिज़ोट्रोपिक वेफर का विशेषता वितरण मानचित्र
