
Hochfeldwafermesssystem MOKE Wafer Scanner für MRAM und Magnetfilmcharakterisierung
Hochfeldwafermesssystem
,Hochfeldwafer-Scanner
,MOKE-Wafer-Scanner
Grundlegende Eigenschaften
Immobilienhandel
High Field Wafer MOKE für MRAM und Magnetfilmcharakterisierung
Produktbeschreibung:
MOKE Wafer Scanner ist ein hochmodernes Instrument, das für die präzise und effiziente Hystereseschleifenmessung auf Wafer-Ebene von magnetischen Stapeln und Bauelementen entwickelt wurde. Dieses fortschrittliche Werkzeug bietet eine Reihe von Testfunktionen, die es zu einem unverzichtbaren Hilfsmittel für Forscher und Hersteller im Bereich der Dünnschicht-Magnetwafer-Inspektion machen.Eines der Hauptmerkmale des MOKE Wafer Scanner ist seine zerstörungsfreie Hystereseschleifenmessung. Dies ermöglicht es den Benutzern, die magnetischen Eigenschaften ihrer Proben zu analysieren, ohne Schäden zu verursachen, wodurch sichergestellt wird, dass die Integrität der Materialien während des gesamten Testprozesses erhalten bleibt.
Mit der automatischen Extraktion von Hystereseschleifeninformationen, einschließlich wichtiger Parameter wie Koerzitivfeld (Hc) der freien und fixierten Schicht, Austauschfeld (Hex) und Magnetisierung (M) mit Kerr-Winkelwert, rationalisiert der MOKE Wafer Scanner die Datenerfassung und -analyse und erleichtert es den Benutzern, aussagekräftige Erkenntnisse aus ihren Messungen zu gewinnen.
Darüber hinaus bietet der MOKE Wafer Scanner eine schnelle Kartierung der magnetischen Charakteristikverteilung auf dem Wafer, so dass die Benutzer die räumliche Variation der magnetischen Eigenschaften über eine Probe effizient beurteilen können. Diese globale Detektionsfähigkeit ermöglicht eine umfassende Analyse der gesamten Waferoberfläche und liefert wertvolle Informationen zur Optimierung von Produktionsprozessen und zur Gewährleistung einer gleichbleibenden Qualitätskontrolle.
Ausgestattet mit PID-Regelung mit geschlossenem Regelkreis liefert der MOKE Wafer Scanner eine außergewöhnliche Magnetfeldauflösung von 0,01 MT. Dieses hohe Maß an Präzision gewährleistet genaue und zuverlässige Messungen und ermöglicht es den Benutzern, fundierte Analysen mit Zuversicht durchzuführen.
Mit einer beeindruckenden Verfügbarkeit von 90 % minimiert der MOKE Wafer Scanner Ausfallzeiten und maximiert die Produktivität, was ihn zu einem zuverlässigen Werkzeug für den Dauereinsatz in Forschungs- und Fertigungsumgebungen macht.
Benutzer können auch von der Probenwiederholbarkeit des MOKE Wafer Scanner profitieren, die 10 μm übersteigt. Dieses Maß an Konsistenz und Genauigkeit stellt sicher, dass Messungen präzise wiederholt werden können, so dass Forscher ihre Ergebnisse sicher validieren und aussagekräftige Schlussfolgerungen aus ihren Experimenten ziehen können.
In Bezug auf die Magnetfeld-Fähigkeiten bietet der MOKE Wafer Scanner einen vertikalen Bereich von ±2,4 T und einen In-Plane-Bereich von ±1,3 T. Dieses breite Spektrum an Magnetfeldstärken ermöglicht es den Benutzern, eine Vielzahl von Materialien und Bauelementen zu charakterisieren, wodurch das Instrument vielseitig und anpassungsfähig an unterschiedliche Forschungs- und Produktionsanforderungen ist.
Merkmale:
- Produktname: Instrument zur Hystereseschleifenmessung auf Wafer-Ebene
- Testeffizienz: 12 WPH@±1,3 T /9 Messstellen/200 mm Wafer
- Probengröße: Kompatibel mit 12 Zoll und kleiner, unterstützt Fragmenttests
- Probenwiederholbarkeit: Besser als 10 μm
- Testfunktionen:
- Zerstörungsfreie Hystereseschleifenmessung von magnetischen Stapeln/Bauelementen
- Automatische Extraktion von Hystereseschleifeninformationen (Hc der freien und fixierten Schicht, Hex, M (Kerr-Winkelwert))
- Schnelle Kartierung der magnetischen Charakteristikverteilung auf dem Wafer
- Magnetfeldhomogenität: Besser als ±1%@Φ1 mm
Technische Parameter:
Magnetfeld | Vertikal ±2,4 T; In-Plane ±1,3 T |
Magnetfeldauflösung | PID-Regelung mit geschlossenem Regelkreis, 0,01 MT |
Magnetfeldhomogenität | Besser als ±1%@Φ1 mm |
Testeffizienz | 12 WPH@±1,3 T /9 Messstellen/200 mm Wafer |
EFEM | Optional |
Probenwiederholbarkeit | Besser als 10 μm |
Probengröße | Kompatibel mit 12 Zoll und kleiner, unterstützt Fragmenttests |
Testfunktionen | Zerstörungsfreie Hystereseschleifenmessung von magnetischen Stapeln/Bauelementen, automatische Extraktion von Hystereseschleifeninformationen (Hc der freien und fixierten Schicht, Hex, M (Kerr-Winkelwert)) und schnelle Kartierung der magnetischen Charakteristikverteilung auf dem Wafer |
Kerr-Winkelauflösung | 0,3 mGrad (RMS) |
Verfügbarkeit | 90% |
Anwendungen:
Der Wafer-MOKE von Truth Instruments ist ein hochmodernes Produkt, das für die Spintronik-Messtechnik entwickelt wurde, insbesondere für die Hystereseschleifenmessung auf Wafer-Ebene. Dieses fortschrittliche Instrument, das aus China stammt, bietet präzise und zerstörungsfreie Testfunktionen für magnetische Stapel und Bauelemente.
Das Wafer-MOKE-Modell ist aufgrund seiner außergewöhnlichen Fähigkeiten ideal für verschiedene Produktanwendungsfälle und -szenarien. Ein primärer Anwendungsfall ist der Bereich der MRAM-Tests, bei denen das Instrument die automatische Extraktion von Hystereseschleifeninformationen wie Hc der freien und fixierten Schicht, Hex und M (Kerr-Winkelwert) ermöglicht.
Mit einer Probenwiederholbarkeit von besser als 10 μm gewährleistet der Wafer-MOKE eine hohe Messgenauigkeit und ist damit ein zuverlässiges Werkzeug für Branchen, die eine präzise magnetische Charakterisierung benötigen. Seine Testeffizienz von 12 Wafern pro Stunde bei ±1,3 T, die 9 Messstellen pro Messung auf einem 200 mm Wafer abdeckt, erhöht die Produktivität erheblich.
Darüber hinaus trägt die Verfügbarkeit des Instruments von 90 % zu ununterbrochenen Testprozessen bei, wodurch Ausfallzeiten minimiert und die Produktivität gesteigert werden. Die Magnetfeld-Fähigkeiten des Wafer-MOKE von vertikal ±2,4 T und In-Plane ±1,3 T bieten Vielseitigkeit beim Testen verschiedener magnetischer Materialien und Strukturen.
Ob in Forschungslabors, Produktionsstätten oder Qualitätskontrollabteilungen, der Wafer-MOKE erweist sich als unverzichtbares Werkzeug für Wafer-Magnetometer-Anwendungen. Seine schnelle Kartierung der magnetischen Charakteristikverteilung auf dem Wafer erhöht seinen Nutzen in verschiedenen Szenarien, die eine detaillierte magnetische Analyse erfordern.