
سیستم اندازه گیری وافرهای میدان بالا اسکنر وافرهای MOKE برای توصیف MRAM و فیلم مغناطیسی
سیستم اندازه گیری وافرهای میدان بالا,اسکنر وافرهای میدان بالا,اسکنر وافرهاي MOKE
,High Field Wafer Scanner
,MOKE Wafer Scanner
ویژگی های اساسی
املاک تجاری
MOKE ویفر میدان بالا برای مشخصه یابی MRAM و فیلم های مغناطیسی
توضیحات محصول:
اسکنر ویفر MOKE یک ابزار پیشرفته است که برای اندازهگیری دقیق و کارآمد اندازهگیری حلقه هیسترزیس در سطح ویفر از پشتهها و دستگاههای مغناطیسی طراحی شده است. این ابزار پیشرفته طیف وسیعی از عملکردهای تست را ارائه میدهد که آن را به یک دارایی ضروری برای محققان و تولیدکنندگان در زمینه بازرسی ویفرهای مغناطیسی لایه نازک تبدیل میکند.یکی از ویژگیهای کلیدی اسکنر ویفر MOKE قابلیت اندازهگیری حلقه هیسترزیس غیر مخرب آن است. این امر به کاربران امکان میدهد خواص مغناطیسی نمونههای خود را بدون ایجاد هیچ آسیبی تجزیه و تحلیل کنند و اطمینان حاصل شود که یکپارچگی مواد در طول فرآیند آزمایش دست نخورده باقی میماند.
با استخراج خودکار اطلاعات حلقه هیسترزیس ، از جمله پارامترهای کلیدی مانند اجبار لایه آزاد و لایه پین شده (Hc)، میدان بایاس تبادلی (Hex) و مغناطش (M) با مقدار زاویه کر، اسکنر ویفر MOKE جمعآوری و تجزیه و تحلیل دادهها را ساده میکند و این امر را برای کاربران آسانتر میکند تا بینشهای معناداری را از اندازهگیریهای خود به دست آورند.
علاوه بر این، اسکنر ویفر MOKE نقشهبرداری سریع از توزیع مشخصه مغناطیسی ویفر را ارائه میدهد و به کاربران امکان میدهد تغییرات فضایی خواص مغناطیسی را در یک نمونه به طور موثر ارزیابی کنند. این قابلیت تشخیص جهانی امکان تجزیه و تحلیل جامع کل سطح ویفر را فراهم میکند و اطلاعات ارزشمندی را برای بهینهسازی فرآیندهای تولید و اطمینان از کنترل کیفیت مداوم ارائه میدهد.
مجهز به فناوری تنظیم بازخورد حلقه بسته PID ، اسکنر ویفر MOKE تفکیک میدان مغناطیسی استثنایی 0.01 MT را ارائه میدهد. این سطح بالای دقت اندازهگیریهای دقیق و قابل اعتماد را تضمین میکند و به کاربران این امکان را میدهد تا تجزیه و تحلیلهای عمیقی را با اطمینان انجام دهند.
با زمان کارکرد چشمگیر 90٪، اسکنر ویفر MOKE زمان خرابی را به حداقل میرساند و بهرهوری را به حداکثر میرساند و آن را به ابزاری قابل اعتماد برای استفاده مداوم در محیطهای تحقیق و تولید تبدیل میکند.
کاربران همچنین میتوانند از تکرارپذیری نمونه اسکنر ویفر MOKE بهرهمند شوند که بیش از 10 میکرومتر است. این سطح از سازگاری و دقت تضمین میکند که اندازهگیریها را میتوان با دقت تکرار کرد و به محققان این امکان را میدهد تا یافتههای خود را با اطمینان تأیید کنند و از آزمایشهای خود به نتایج معناداری برسند.
وقتی نوبت به قابلیتهای میدان مغناطیسی میرسد، اسکنر ویفر MOKE محدوده عمودی ±2.4 T و محدوده درون صفحه ±1.3 T را ارائه میدهد. این طیف گسترده از قدرت میدان مغناطیسی به کاربران امکان میدهد انواع گستردهای از مواد و دستگاهها را مشخصه یابی کنند و این ابزار را به نیازهای متنوع تحقیق و تولید سازگار و تطبیقپذیر میکند.
ویژگیها:
- نام محصول: ابزار اندازهگیری حلقه هیسترزیس در سطح ویفر
- بهرهوری تست: 12 WPH@±1.3 T / اندازهگیری 9 سایت / ویفر 200 میلیمتری
- اندازه نمونه: سازگار با 12 اینچ و کمتر، پشتیبانی از تست قطعه
- تکرارپذیری نمونه: بهتر از 10 میکرومتر
- عملکردهای تست:
- اندازهگیری حلقه هیسترزیس غیر مخرب پشتهها/دستگاههای مغناطیسی
- استخراج خودکار اطلاعات حلقه هیسترزیس (Hc لایه آزاد و لایه پین شده، Hex، M (مقدار زاویه کر))
- نقشهبرداری سریع از توزیع مشخصه مغناطیسی ویفر
- یکنواختی میدان مغناطیسی: بهتر از ±1%@Φ1 میلیمتر
پارامترهای فنی:
میدان مغناطیسی | عمودی ±2.4 T; درون صفحه ±1.3 T |
تفکیک میدان مغناطیسی | تنظیم بازخورد حلقه بسته PID، 0.01 MT |
یکنواختی میدان مغناطیسی | بهتر از ±1%@Φ1 میلیمتر |
بهرهوری تست | 12 WPH@±1.3 T / اندازهگیری 9 سایت / ویفر 200 میلیمتری |
EFEM | اختیاری |
تکرارپذیری نمونه | بهتر از 10 میکرومتر |
اندازه نمونه | سازگار با 12 اینچ و کمتر، پشتیبانی از تست قطعه |
عملکردهای تست | اندازهگیری حلقه هیسترزیس غیر مخرب پشتهها/دستگاههای مغناطیسی، استخراج خودکار اطلاعات حلقه هیسترزیس (Hc لایه آزاد و لایه پین شده، Hex، M (مقدار زاویه کر)) و نقشهبرداری سریع از توزیع مشخصه مغناطیسی ویفر |
تفکیک زاویه کر | 0.3 Mdeg (RMS) |
زمان کارکرد | 90% |
کاربردها:
Wafer-MOKE Truth Instruments یک محصول پیشرفته است که برای اندازهگیری اسپینترونیک، به ویژه برای اندازهگیری حلقه هیسترزیس در سطح ویفر طراحی شده است. این ابزار پیشرفته که منشأ آن چین است، عملکردهای تست دقیق و غیر مخربی را برای پشتهها و دستگاههای مغناطیسی ارائه میدهد.
مدل Wafer-MOKE به دلیل قابلیتهای استثنایی خود برای موقعیتها و سناریوهای مختلف کاربرد محصول ایدهآل است. یک مورد استفاده اصلی در زمینه تست MRAM است، جایی که این ابزار امکان استخراج خودکار اطلاعات حلقه هیسترزیس مانند Hc لایه آزاد و لایه پین شده، Hex و M (مقدار زاویه کر) را فراهم میکند.
با تکرارپذیری نمونه بهتر از 10 میکرومتر، Wafer-MOKE دقت بالایی را در اندازهگیریها تضمین میکند و آن را به ابزاری قابل اعتماد برای صنایعی که به مشخصه یابی مغناطیسی دقیق نیاز دارند تبدیل میکند. راندمان تست آن 12 ویفر در ساعت در ±1.3 T، پوشش 9 سایت در هر اندازهگیری روی یک ویفر 200 میلیمتری، بهرهوری را به میزان قابل توجهی افزایش میدهد.
علاوه بر این، زمان کارکرد 90 درصدی این ابزار به فرآیندهای تست بدون وقفه کمک میکند و از حداقل زمان خرابی و افزایش بهرهوری اطمینان حاصل میکند. قابلیتهای میدان مغناطیسی Wafer-MOKE با ±2.4 T عمودی و ±1.3 T درون صفحه، تطبیقپذیری را در آزمایش مواد و ساختارهای مغناطیسی مختلف فراهم میکند.
چه در آزمایشگاههای تحقیقاتی، چه در تأسیسات تولیدی یا بخشهای کنترل کیفیت، Wafer-MOKE ثابت میکند که ابزاری ضروری برای کاربردهای ویفر مغناطیسسنج است. نقشهبرداری سریع آن از توزیع مشخصه مغناطیسی ویفر، کاربرد آن را در سناریوهای مختلفی که نیاز به تجزیه و تحلیل دقیق مغناطیسی دارند، بیشتر میکند.