logo

High Field Wafer Measurement System MOKE Wafer Scanner voor MRAM en Magnetic Film Characterization

High Field Wafer MOKE For MRAM And Magnetic Film Characterization Product Description: MOKE Wafer Scanner is a cutting-edge instrument designed for precise and efficient Wafer-Level Hysteresis Loop Measurement of magnetic stacks and devices. This advanced tool offers a range of testing functions that make it an indispensable asset for researchers and manufacturers in the field of thin film magnetic wafer inspection. One of the key features of the MOKE Wafer Scanner is its non
Productdetails
Markeren:

High Field Wafer Measurement System (Systeem voor het meten van wafers met een hoog veld)

,

High Field Wafer Scanner

,

MOKE Wafer Scanner

Kerr Angle Resolution: 0,3 mdeg (rms)
Testing Efficiency: 12 wph@±1.3 t /9 sitesmeting /200 mm wafer
Uptime: 90%
Magnetic Field: Verticaal ± 2,4 t; In het vlak ± 1,3 t
EFEM: Optioneel
Testing Functions: Niet-destructieve hysteresislusmeting van magnetische stapels/apparaten, automatische extractie van
Magnetic Field Resolution: PID gesloten-lus feedbackregeling, 0,01 MT
Magnetic Field Uniformity: Beter dan ± 1%@φ1 mm

Basiseigenschappen

Merknaam: Truth Instruments
Modelnummer: Wafelmoke

Handelsgoederen

Prijs: Price Negotiable | Contact us for a detailed quote
Betalingsvoorwaarden: T/t
Productomschrijving

High Field Wafer MOKE voor MRAM- en magnetische filmkenmerken

Productbeschrijving:

MOKE Wafer Scanneris een geavanceerd instrument ontworpen voor nauwkeurige en efficiënteMeting van hysteresislussen op waferniveauvan magnetische stapels en toestellen.Dit geavanceerde instrument biedt een reeks testfuncties die het een onmisbare troef maken voor onderzoekers en fabrikanten op het gebied van inspectie van dunne film magnetische wafers.

Een van de belangrijkste kenmerken van deMOKE Wafer Scanneris hetniet-destructieve hysteresislusmetingDit stelt gebruikers in staat de magnetische eigenschappen van hun monsters te analyseren zonder schade te veroorzaken.waarborgen dat de integriteit van de materialen gedurende het gehele testproces intact blijft.

Metautomatische extractie van hysteresislusinformatie, met inbegrip van de belangrijkste parameters zoals vrije laag en gepenneerde laag coerciviteit (Hc), uitwisseling bias veld (Hex), en magnetisatie (M) met Kerr hoek waarde, deMOKE Wafer ScannerDe Commissie heeft de Commissie verzocht om een verslag uit te brengen over de resultaten van de evaluatie van de resultaten van de evaluatie.

Bovendien heeft deMOKE Wafer Scanneraanbiedingensnelle mapping van de magnetische karakteristieke verdeling van wafers, waardoor gebruikers de ruimtelijke variatie van de magnetische eigenschappen in een monster efficiënt kunnen beoordelen.het verstrekken van waardevolle informatie voor het optimaliseren van productieprocessen en het waarborgen van een consistente kwaliteitscontrole.

Voorzien van:Regeling van PID-feedback in gesloten lusde technologie, deMOKE Wafer Scannerlevert uitzonderlijkemagnetische veldresolutieDeze hoge nauwkeurigheid zorgt voor nauwkeurige en betrouwbare metingen, waardoor gebruikers met vertrouwen grondige analyses kunnen uitvoeren.

Met een indrukwekkendeOpeningstijdvan 90%, deMOKE Wafer ScannerHet maakt het een betrouwbaar hulpmiddel voor continu gebruik in onderzoeks- en productieomgevingen.

Gebruikers kunnen ook profiteren van deherhaalbaarheid van de steekproefvan deMOKE Wafer Scanner, die meer dan 10 μm bedraagt. Dit consistentie- en nauwkeurigheidsniveau zorgt ervoor dat metingen nauwkeurig kunnen worden herhaald,het onderzoekers in staat stellen hun bevindingen met vertrouwen te valideren en zinvolle conclusies te trekken uit hun experimenten.

Als het gaat ommagnetisch veldvermogen, deMOKE Wafer Scannerheeft een verticaal bereik van ±2,4 T en een bereik in het vlak van ±1,3 T. Dit brede spectrum van magnetische veldsterkte stelt gebruikers in staat een grote verscheidenheid aan materialen en apparaten te karakteriseren,het instrument veelzijdig en aanpasbaar maken aan verschillende onderzoeks- en productievereisten.

Kenmerken:

  • Productnaam: Waferniveau hysteresis-lusmetingsinstrument
  • Testdoeltreffendheid: 12 WPH@±1,3 T /9 Plaatsmeting/200 mm wafer
  • Monsterafmeting: compatibel met 12 inch en lager, ondersteunt fragment testen
  • Monsteren herhaalbaarheid: beter dan 10 μm
  • Testfuncties:
    • Niet-destructieve hysteresislusmeting van magnetische stapels/toestellen
    • Automatische extractie van hysteresislussinformatie (vrij laag en gepenneerde laag Hc, Hex, M (Kerr-hoekwaarde))
    • Snel in kaart brengen van de wafermagnetische kenmerkenverdeling
  • Uniformiteit van het magnetisch veld: beter dan ±1%@Φ1 mm

Technische parameters:

Magnetisch veld Verticaal ±2,4 T; in het vlak ±1,3 T
Magnetische veldresolutie PID-regeling voor terugkoppeling in gesloten kring, 0,01 MT
Magnetisch veld gelijkmatigheid Beter dan ±1%@Φ1 mm
Efficiëntie testen 12 WPH@±1,3 T /9 Plaatsmeting/200 mm Wafer
EFEM Facultatief
Herhaalbaarheid van de steekproef Beter dan 10 μm
Grootte van het monster Compatibel met 12 inch en lager, ondersteunt fragment testen
Testfuncties Niet-destructieve meting van hysteresislussen van magnetische stapels/apparaten, automatische extractie van hysteresislussinformatie (vrije laag en vastgemaakte laag Hc, Hex, M (Kerr-hoekwaarde)),En Rapid Mapping Of Wafer Magnetic Characteristic Distribution
Kerrhoekresolutie 0.3 Mdeg (RMS)
Openingstijd 90%

Toepassingen:

Truth Instruments' Wafer-MOKE is een geavanceerd product ontworpen voor spintronics metrologie, specifiek voor wafer-niveau hysteresislusmeting.biedt nauwkeurige en niet-destructieve testfuncties voor magnetische stapels en apparaten.

Het Wafer-MOKE-model is ideaal voor verschillende producttoepassingen en -scenario's vanwege zijn uitzonderlijke mogelijkheden.wanneer het instrument automatische extractie mogelijk maakt van hysteresislusinformatie, zoals vrije laag en gepenneerde laag Hc, Hex, en M (Kerr hoek waarde).

De Wafer-MOKE zorgt voor een hoge nauwkeurigheid van de metingen, waardoor het een betrouwbaar hulpmiddel is voor industrieën die een nauwkeurige magnetische karakterisering vereisen.De testdoeltreffendheid van 12 wafers per uur bij ± 1.3 T, die 9 plaatsen per meting op een 200 mm-wafer bestrijkt, verhoogt de productiviteit aanzienlijk.

Bovendien draagt de 90%-uptime van het instrument bij aan een ononderbroken testproces, waardoor minimale stilstandstijden en een hogere productiviteit worden gewaarborgd.De magnetische veldcapaciteit van de Wafer-MOKE van verticaal ±2.4 T en ±1,3 T in het vlak bieden veelzijdigheid bij het testen van verschillende magnetische materialen en structuren.

Of het nu gaat om onderzoekslaboratoria, productiefaciliteiten of afdelingen voor kwaliteitscontrole, de Wafer-MOKE blijkt een onmisbaar hulpmiddel te zijn voor wafermagnetometeren.De snelle mapping van de magnetische karakteristieke verdeling van wafers vergroot het nut ervan in verschillende scenario's die gedetailleerde magnetische analyse vereisen..

Stuur een aanvraag

Krijg een snel citaat