Kurzfassung: Entdecken Sie das High Scanning Force Microscope for Wafe, ein hochmodernes Rasterkraftmikroskop (AFM) mit einer Auflösung von 0,15 nm. Ideal für Nanotechnologie, Materialwissenschaften und Biologie, bietet dieses AFM vielseitige Bildgebungsmodi, präzise Kraftempfindlichkeit und unterstützt Proben bis zu 200 mm x 5200 mm. Perfekt für hochauflösende Oberflächenanalyse und Nanoforschung.
Verwandte Produktmerkmale:
Hochauflösende Bilder mit einer Auflösung von 0,15 nm für eine detaillierte Oberflächenanalyse.
Vielseitige Bildmodus einschließlich Topographie, Phase, Reibung und seitliche Kraft.
Außergewöhnliche Auflösung von 0,15 nN für präzise Messungen mechanischer Eigenschaften.
Unterstützt große Stichprobengrößen von bis zu 200 mm x 5200 mm für verschiedene Forschungsvorhaben.
Mehrere Scanmodi: Kontakt, Antippen und berührungslos für flexible Bildgebungsansätze.
Erweiterte Software-Kompatibilität mit Windows für nahtlose Datenanalyse.
Ideal für Halbleiterforschung, Materialwissenschaft und biologische Studien.
Robuste Konstruktion für eine zuverlässige Leistung in der hochpräzisen Nanobildgebung.
FAQ:
Wie hoch ist die Auflösung des Hochleistungs-Rasterkraftmikroskops für Wafer?
Das AFM bietet eine beeindruckende Auflösung von 0,15 nm und ermöglicht eine detaillierte Oberflächenanalyse und präzise Messungen.
Welche Bildgebungsmodi sind mit diesem AFM verfügbar?
Das AFM unterstützt mehrere Bildgebungsmodi, darunter Topographie, Phase, Reibung und laterale Kraft, für eine umfassende Oberflächencharakterisierung.
Welche Probengrößen kann das AFM aufnehmen?
Das AFM kann Proben bis zu 200 mm x 5200 mm handhaben, was es für eine Vielzahl von Forschungsanwendungen geeignet macht.
Welche Scanmodi gibt es mit diesem AFM?
Das AFM bietet Kontakt-, Tapping- und Non-Contact-Scanning-Modi und bietet so Flexibilität für unterschiedliche Bildgebungsanforderungen und Probentypen.