System MOKE na poziomie płytki 0,3 Mdeg dla szybkich pętli histerezy i kontroli procesu

Opis produktu:

Przyrząd do pomiaru pętli histerezy na poziomie wafla to najnowocześniejsze narzędzie przeznaczone do nieniszczącego pomiaru pętli histerezy stosów/urządzeń magnetycznych, automatycznego wydobywania informacji z pętli histerezy, w tym Hc, Hex i M (wartość kąta Kerra) warstwy swobodnej i warstwy przypiętej, a także szybkiego mapowania rozkładu charakterystyki magnetycznej wafla.

Dzięki imponującemu czasowi sprawności wynoszącemu 90%, to urządzenie zapewnia niezawodne i spójne działanie dla Twoich potrzeb testowych. Jego zaawansowane funkcje testowe umożliwiają użytkownikom dokładne mierzenie i analizowanie właściwości magnetycznych różnych materiałów z łatwością i wydajnością.

Jedną z kluczowych cech tego instrumentu jest jego wydajność testowania, oferująca wysoką przepustowość 12 WPH przy pomiarze ±1,3 T /9 miejsc/200 mm wafla. Ta wyjątkowa prędkość testowania pozwala na szybkie i precyzyjne gromadzenie danych, co czyni go idealnym do środowisk produkcyjnych o dużej objętości.

Dla dodatkowej elastyczności, instrument oferuje również opcjonalną integrację EFEM (Equipment Front End Module), umożliwiając bezproblemową integrację z istniejącymi systemami przetwarzania wafla.

Przyrząd do pomiaru pętli histerezy na poziomie wafla charakteryzuje się rozdzielczością pola magnetycznego regulacji sprzężenia zwrotnego w pętli zamkniętej PID, zapewniając precyzyjne i dokładne pomiary z rozdzielczością 0,01 MT. Ten poziom precyzji jest kluczowy dla dogłębnej analizy i charakteryzacji materiałów magnetycznych.

Ogólnie rzecz biorąc, to zaawansowane urządzenie jest wszechstronnym rozwiązaniem dla zastosowań magnetometru wafla, pomiarów MOKE (efektu magneto-optycznego Kerra) na poziomie wafla i metrologii spintroniki. Jego innowacyjne funkcje i wysoka wydajność sprawiają, że jest to niezbędne narzędzie dla naukowców i producentów pracujących w dziedzinie materiałów magnetycznych i spintroniki.

Cechy:

• Nazwa produktu: Przyrząd do pomiaru pętli histerezy na poziomie wafla
• Rozdzielczość kąta Kerra: 0,3 mdeg (RMS)
• Powtarzalność próbki: Lepsza niż 10 μm
• Jednolitość pola magnetycznego: Lepsza niż ±1%@Φ1 Mm
• Wydajność testowania: 12 WPH@±1,3 T /9 pomiarów miejsc/200 Mm Wafer
• EFEM: Opcjonalny

Parametry techniczne:

Zastosowania:

Wafer-MOKE firmy Truth Instruments to najnowocześniejsze narzędzie do metrologii magnetycznej, zaprojektowane do precyzyjnych pomiarów pętli histerezy na magnetycznych waflach z cienką warstwą. Ten innowacyjny instrument, pochodzący z Chin, oferuje niezrównaną dokładność i wydajność w charakteryzowaniu właściwości magnetycznych.

Dzięki Wafer-MOKE naukowcy i producenci mogą wykonywać pomiary pętli histerezy na poziomie wafla w różnych okazjach i scenariuszach zastosowań. Opcjonalna integracja EFEM umożliwia bezproblemową automatyzację i integrację z istniejącymi procesami produkcji półprzewodników, zwiększając produktywność i redukując interwencję manualną.

Jedną z kluczowych cech Wafer-MOKE są jego wszechstronne możliwości pola magnetycznego. Instrument może generować pionowe pola magnetyczne do ±2,4 T i pola magnetyczne w płaszczyźnie do ±1,3 T, zaspokajając szeroki zakres wymagań testowych materiałów magnetycznych. Co więcej, jednolitość pola magnetycznego lepsza niż ±1% przy Φ1 mm zapewnia niezawodne i spójne wyniki pomiarów na całym waflu.

Do globalnej detekcji i kontroli jakości w przemyśle półprzewodników, Wafer-MOKE oferuje wyjątkowy czas sprawności wynoszący 90%, zapewniając ciągłą pracę i minimalny czas przestoju. Ten wysoki procent czasu sprawności jest kluczowy dla spełnienia wymagań produkcyjnych i utrzymania przepustowości w procesach inspekcji magnetycznych wafla.

Ponadto, Wafer-MOKE charakteryzuje się imponującą powtarzalnością próbek, z wynikami lepszymi niż 10 μm. Ten poziom precyzji jest niezbędny dla działań badawczo-rozwojowych, gdzie dokładne i powtarzalne pomiary są najważniejsze.

Ogólnie rzecz biorąc, Truth Instruments Wafer-MOKE to najnowocześniejsze rozwiązanie do inspekcji magnetycznych wafla z cienką warstwą, oferujące niezrównaną wydajność i niezawodność w zastosowaniach metrologii magnetycznej.