MFM/KPFM-Modi für die hochpräzise Charakterisierung von Nanomaterialien

Produktbeschreibung:

Das Rasterkraftmikroskop (AFM) ist ein hochmodernes Rasterkraftmikroskop, das entwickelt wurde, um beispiellose Bildgebungs- und Messmöglichkeiten im Nanobereich zu bieten. Mit seiner fortschrittlichen XYZ-Drei-Achsen-Vollproben-Rastermethode ermöglicht dieses AFM eine präzise und umfassende Untersuchung von Probenoberflächen und gewährleistet hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit in der Nanoforschung und in industriellen Anwendungen. Die Vollproben-Rasterfunktion ermöglicht es dem Mikroskop, den gesamten Probenbereich abzutasten und so ein detailliertes und vollständiges Oberflächenprofil zu erstellen.

Eines der herausragenden Merkmale dieses Rasterkraftmikroskops ist seine Kompatibilität mit Proben mit einem Durchmesser von bis zu 25 mm. Diese großzügige Probenaufnahmegröße macht es vielseitig für eine Vielzahl von wissenschaftlichen Untersuchungen und Materialanalysen, von Halbleiterwafern bis hin zu biologischen Präparaten. Forscher und Ingenieure können bedenkenlos größere oder unregelmäßig geformte Proben untersuchen, ohne Kompromisse bei der Auflösung oder der Rasterpräzision eingehen zu müssen.

Präzision und Genauigkeit sind bei Nanomessungen entscheidend, und dieses AFM zeichnet sich in dieser Hinsicht aus. Es weist eine außergewöhnlich geringe Nichtlinearität von nur 0,02 % in der XY-Richtung und 0,08 % in der Z-Richtung auf. Eine solche minimale Nichtlinearität stellt sicher, dass die während des Abtastens erfassten Positionsdaten sehr zuverlässig sind, wodurch Verzerrungen reduziert und die Wiedergabetreue von Oberflächentopologiebildern verbessert wird. Diese Präzision trägt erheblich dazu bei, eine Nanometerauflösung zu erreichen, so dass Benutzer Oberflächenmerkmale im atomaren oder molekularen Maßstab untersuchen können.

Der Rasterwinkelbereich von 0 bis 360 Grad erhöht die Flexibilität dieses Rasterkraftmikroskops zusätzlich. Diese volle Rotationsabtastung ermöglicht es den Benutzern, Oberflächenmerkmale aus jeder Ausrichtung zu inspizieren und zu analysieren, was zu einer umfassenderen Datenerfassung und einem besseren Verständnis der Oberflächeneigenschaften und -verhaltensweisen führt. Diese Fähigkeit ist besonders vorteilhaft bei der Untersuchung anisotroper Materialien oder komplexer Oberflächengeometrien.

Was dieses Rasterkraftmikroskop wirklich auszeichnet, sind seine multifunktionalen Messmöglichkeiten. Es unterstützt mehrere Betriebsarten, darunter Elektrostatische Kraftmikroskopie (EFM), Scanning-Kelvin-Sonden-Kraftmikroskopie (KPFM), Piezoelektrische Kraftmikroskopie (PFM), Scanning-Kapazitätsmikroskopie (SCM) und Magnetkraftmikroskopie (MFM). Jeder dieser Modi liefert einzigartige Einblicke in verschiedene physikalische Eigenschaften der Probe, wie z. B. elektrische, magnetische und piezoelektrische Eigenschaften, und ermöglicht eine umfassende Oberflächencharakterisierung in einem einzigen Instrument.

Darüber hinaus bietet das AFM einen optionalen Modus für leitfähige Rasterkraftmikroskopie (C-AFM), der seine Funktionalität um elektrische Leitfähigkeitsmessungen im Nanobereich erweitert. Dieser optionale Modus ist von unschätzbarem Wert für Forscher, die in den Bereichen Nanoelektronik, Materialwissenschaften und Halbleiterbauelemententwicklung arbeiten, wo das Verständnis der elektrischen Leitungspfade unerlässlich ist.

Insgesamt integriert dieses Rasterkraftmikroskop mehrere Modi und fortschrittliche Rastertechnologie, um eine Bildgebung mit Nanometerauflösung und eine multifunktionale Oberflächenanalyse zu liefern. Seine XYZ-Drei-Achsen-Vollproben-Rastermethode gewährleistet eine gründliche und präzise Abdeckung von Proben mit einem Durchmesser von bis zu 25 mm, während seine geringe Nichtlinearität und der volle 360-Grad-Rasterwinkel eine originalgetreue Datenerfassung garantieren. Ob in der akademischen Forschung, in der Materialwissenschaft oder in der industriellen Qualitätskontrolle eingesetzt, dieses Rasterkraftmikroskop ist ein leistungsstarkes und vielseitiges Werkzeug, das die anspruchsvollen Anforderungen der Oberflächencharakterisierung im Nanobereich erfüllt.

Durch die Kombination aus robustem mechanischem Design, vielseitigen Messmodi und außergewöhnlicher Auflösung zeichnet sich dieses AFM als unverzichtbares Instrument für alle aus, die die Komplexität von Oberflächen im Nanometerbereich erforschen und verstehen wollen. Seine multifunktionalen Fähigkeiten machen es ideal für eine Vielzahl von Anwendungen und bieten Forschern und Ingenieuren die detaillierten Einblicke, die erforderlich sind, um die Grenzen der Nanotechnologie und der Materialwissenschaft zu erweitern.

Merkmale:

• Produktname: Rasterkraftmikroskop (AFM)
• Rasterbereich: 100 μm * 100 μm * 10 μm
• Bildabtastpunkte: 32*32 bis 4096*4096
• Rastermethode: XYZ-Drei-Achsen-Vollproben-Rasterung
• Rasterwinkel: 0~360°
• Probengröße: Kompatibel mit Proben mit einem Durchmesser von 25 mm
• Berührungsloser Rastermodus für präzise Oberflächenanalyse
• Fähigkeiten zur Abbildung von Oberflächeneigenschaften für detaillierte Materialcharakterisierung

Technische Parameter:

Anwendungen:

Das Truth Instruments AtomEdge Pro Rasterkraftmikroskop, das aus China stammt, ist ein fortschrittliches Werkzeug, das für eine Vielzahl von wissenschaftlichen und industriellen Anwendungen entwickelt wurde. Seine vielseitigen Betriebsarten – einschließlich Kontaktmodus, Tap-Modus, Phasenbildgebungsmodus, Lift-Modus und Multi-Direktions-Rastermodus – ermöglichen es Forschern, präzise Oberflächenanalysen unter verschiedenen Bedingungen durchzuführen. Diese Flexibilität macht das AtomEdge Pro ideal für die detaillierte Abbildung von Oberflächeneigenschaften und die hochauflösende Bildgebung.

Einer der herausragenden Anwendungsfälle für das AtomEdge Pro sind Materialwissenschaftslabore, in denen detaillierte Untersuchungen der Topographie und der mechanischen Eigenschaften von entscheidender Bedeutung sind. Der außergewöhnliche Rasterwinkelbereich von 0~360° und die geringe Nichtlinearität in der XY-Richtung (0,02 %) und der Z-Richtung (0,08 %) gewährleisten eine hochpräzise und reproduzierbare Datenerfassung. Diese Präzision ist unerlässlich, wenn Oberflächenmerkmale im Nanobereich untersucht und die grundlegenden Eigenschaften neuer Materialien verstanden werden sollen.

In der Halbleiterforschung und -entwicklung spielt das AtomEdge Pro eine wichtige Rolle, indem es die Scanning-Kelvin-Sonden-Mikroskopie (SKPM) ermöglicht, die für die nicht-invasive Abbildung elektrischer Oberflächenpotentiale unerlässlich ist. Die berührungslose Fähigkeit dieser Technik ermöglicht die empfindliche Erkennung von Arbeitsfunktionsvariationen und Ladungsverteilungen auf Halbleiteroberflächen, ohne empfindliche Proben zu beschädigen. Dies macht das AtomEdge Pro zu einem unverzichtbaren Werkzeug für die Qualitätskontrolle und Geräteoptimierung in der Elektronikindustrie.

Die Kompatibilität mit Proben mit einem Durchmesser von bis zu 25 mm macht das AtomEdge Pro für verschiedene Probentypen geeignet, von dünnen Filmen und Beschichtungen bis hin zu biologischen Präparaten. In der Biotechnologie und den Biowissenschaften bieten die hohen Bildabtastpunkte des Instruments – von 32*32 bis zu 4096*4096 – eine detaillierte Visualisierung von Zellstrukturen und biomolekularen Wechselwirkungen und erleichtern Durchbrüche in der medizinischen Forschung und der pharmazeutischen Entwicklung.

Darüber hinaus wird das AtomEdge Pro in der Oberflächenchemie und der Nanotechnologieforschung häufig eingesetzt, da es in der Lage ist, eine umfassende Abbildung der Oberflächeneigenschaften durchzuführen. Forscher können Adhäsion, Reibung und magnetische Eigenschaften im Nanobereich analysieren und so wichtige Erkenntnisse über Oberflächenphänomene gewinnen. Der Multi-Direktions-Rastermodus verbessert die Fähigkeit des Mikroskops, komplexe Oberflächengeometrien genau zu erfassen, zusätzlich.

Insgesamt ist das Truth Instruments AtomEdge Pro Rasterkraftmikroskop ein leistungsstarkes und vielseitiges Instrument, das für verschiedene Anlässe und Szenarien geeignet ist, die eine präzise Oberflächencharakterisierung, berührungslose Bildgebung und fortschrittliche Rastertechniken wie die Scanning-Kelvin-Sonden-Mikroskopie erfordern. Sein robustes Design und sein umfassender Funktionsumfang machen es zu einem wertvollen Vorteil in der wissenschaftlichen Forschung, der industriellen Qualitätssicherung und der Entwicklung innovativer Technologien.