AtomExplorer AFM: Integrierte MFM, EFM und KFM für die Materialanalyse

Produktbeschreibung:

Das Rasterkraftmikroskop (AFM) vom Basistyp ist ein hochmodernes Instrument, das außergewöhnliche Leistung und Vielseitigkeit für eine Vielzahl von Oberflächenanalyseanwendungen bietet. Dieses AFM-Mikroskop wurde mit fortschrittlicher Technologie entwickelt und bietet AFM-Funktionen mit Subnanometer-Auflösung, sodass Forscher und Ingenieure die Oberflächentopographie und -eigenschaften mit beispielloser Präzision beobachten und messen können. Sein hervorragendes Z-Achsen-Rauschlevel von nur 0,04 Nanometern stellt sicher, dass selbst die subtilsten Oberflächenmerkmale erkannt und genau analysiert werden können, was es zu einem unverzichtbaren Werkzeug in der Nanotechnologie, Materialwissenschaft und Halbleiterforschung macht.

Eines der herausragenden Merkmale des Rasterkraftmikroskops vom Basistyp sind seine multifunktionalen Messmöglichkeiten. Es unterstützt eine Vielzahl fortschrittlicher Rasterprobentechniken, darunter Elektrostatische Kraftmikroskopie (EFM), Raster-Kelvin-Sonden-Kraftmikroskopie (KPFM), Piezoelektrische Kraftmikroskopie (PFM) und Magnetkraftmikroskopie (MFM). Diese multifunktionalen Messungen ermöglichen es Benutzern, nicht nur die Oberflächenmorphologie, sondern auch die elektrischen, piezoelektrischen und magnetischen Eigenschaften von Proben mit hoher Empfindlichkeit und räumlicher Auflösung zu untersuchen. Diese Vielseitigkeit macht das AFM ideal für eine umfassende nanoskalige Charakterisierung in mehreren wissenschaftlichen Disziplinen.

Das Instrument arbeitet in mehreren Modi, um unterschiedlichen Probentypen und Messanforderungen gerecht zu werden. Es unterstützt den Tap-Modus, den Kontaktmodus, den Lift-Modus und den Phasenbildgebungsmodus und bietet Benutzern die Flexibilität, den optimalen Scanansatz zu wählen. Der Tap-Modus hilft, Probenschäden und Spitzenverschleiß zu reduzieren, indem er die Probenoberfläche intermittierend kontaktiert, während der Kontaktmodus eine kontinuierliche Interaktion mit der Oberfläche ermöglicht, was für harte Proben nützlich ist. Der Lift-Modus ist besonders vorteilhaft für magnetische und elektrische Kraftmessungen, und der Phasenbildgebungsmodus bietet Einblicke in die Materialzusammensetzung und die mechanischen Eigenschaften, indem er Phasenverschiebungen während des Scannens erkennt.

Das AFM vom Basistyp verfügt über einen umfangreichen Bildabtastpunktbereich, von mindestens 32*32 Punkten bis zu maximal 4096*4096 Punkten. Dieser große Bereich an Abtastauflösungen ermöglicht es Benutzern, zwischen Scangeschwindigkeit und Bilddetailgrad entsprechend ihren spezifischen experimentellen Anforderungen abzuwägen. Höhere Abtastpunkte führen zu detaillierteren Bildern, die komplizierte Oberflächenstrukturen und nanoskalige Merkmale mit außergewöhnlicher Klarheit offenbaren.

Um eine umfassende Oberflächenanalyse zu gewährleisten, verwendet das Mikroskop eine XYZ-Drei-Achsen-Vollproben-Scanmethode. Diese Scantechnik bietet eine vollständige dreidimensionale Bewegung und Positionierung des Probentisches und ermöglicht eine präzise Steuerung der lateralen (X- und Y-Achsen) und vertikalen (Z-Achse) Richtungen. Die Drei-Achsen-Scanfunktion erleichtert die Untersuchung komplexer Probengeometrien und großer Oberflächenbereiche und erhöht die Vielseitigkeit und Benutzerfreundlichkeit des Instruments in verschiedenen Forschungsumgebungen.

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass das Rasterkraftmikroskop vom Basistyp ein leistungsstarkes und vielseitiges Werkzeug ist, das AFM-Bildgebung mit Subnanometer-Auflösung mit multifunktionalen Messmöglichkeiten kombiniert, einschließlich Magnetkraftmikroskopie (MFM) und anderen fortschrittlichen Techniken. Sein geringes Rauschlevel, die mehreren Betriebsmodi, die hohe Bildabtastfähigkeit und das XYZ-Drei-Achsen-Scansystem machen es zu einer idealen Wahl für Forscher, die eine hochpräzise Oberflächencharakterisierung suchen. Ob bei der Untersuchung elektrischer, piezoelektrischer, magnetischer oder topografischer Eigenschaften, dieses AFM-Mikroskop liefert zuverlässige und detaillierte Daten und unterstützt Durchbrüche in der Nanowissenschaft und der Forschung an fortschrittlichen Materialien.

Merkmale:

• Produktname: Rasterkraftmikroskop vom Basistyp
• Scanmethode: XYZ-Drei-Achsen-Vollproben-Scannen für präzise nanoskalige Topographiebildgebung
• Multifunktionale Messungen: Enthält Elektrostatische Kraftmikroskopie (EFM), Raster-Kelvin-Sonden-Mikroskopie (KPFM), Piezoelektrische Kraftmikroskopie (PFM) und Magnetkraftmikroskopie (MFM)-Funktionen
• Scanbereich: 100 μm * 100 μm * 10 μm und 30 μm * 30 μm * 5 μm Optionen verfügbar
• Z-Achsen-Rauschlevel: Ultra-geringes Rauschlevel von 0,04 nm sorgt für hochauflösende Bildgebung
• Betriebsmodi: Unterstützt Tap-Modus, Kontaktmodus, Lift-Modus und Phasenbildgebungsmodus für vielseitige AFM-Mikroskop-Anwendungen
• Entwickelt als Rasterkraftmikroskop vom Basistyp, das für detaillierte nanoskalige Topographiebildgebung geeignet ist

Technische Parameter:

Anwendungen:

Das Truth Instruments AtomExplorer, ein Rasterkraftmikroskop (AFM) vom Basistyp, das in China hergestellt wird, ist ein fortschrittliches nanoskaliges Mikroskop, das entwickelt wurde, um eine detaillierte Oberflächenstrukturanalyse mit AFM-Funktionen mit Subnanometer-Auflösung bereitzustellen. Dieses vielseitige Instrument ist ideal für eine Vielzahl von Produktanwendungsanlässen und -szenarien sowohl in der Forschung als auch in industriellen Umgebungen.

In akademischen und Forschungslabors wird der AtomExplorer ausgiebig für materialwissenschaftliche Studien eingesetzt, bei denen eine präzise Oberflächencharakterisierung von entscheidender Bedeutung ist. Seine Fähigkeit, in mehreren Modi zu arbeiten – einschließlich Tap-Modus, Kontaktmodus, Lift-Modus und Phasenbildgebungsmodus – ermöglicht es Forschern, die physikalischen und chemischen Eigenschaften verschiedener Proben mit außergewöhnlicher Genauigkeit zu untersuchen. Das AFM mit Subnanometer-Auflösung stellt sicher, dass selbst die kleinsten Oberflächenmerkmale beobachtet und analysiert werden können, was es für die Nanotechnologieforschung, die Halbleiterinspektion und biomolekulare Studien unverzichtbar macht.

In der Halbleiterindustrie spielt der AtomExplorer eine entscheidende Rolle bei der Qualitätskontrolle und Fehleranalyse. Seine XYZ-Drei-Achsen-Vollproben-Scanmethode deckt Proben bis zu Φ 25 mm ab und bietet eine umfassende Oberflächenstrukturanalyse für Wafer, Dünnschichten und mikroelektronische Komponenten. Der hohe Bildabtastpunktbereich von 32*32 bis 4096*4096 ermöglicht eine detaillierte Bildgebung und Kartierung nanoskaliger Oberflächenunregelmäßigkeiten, die für die Geräteleistung und -zuverlässigkeit von entscheidender Bedeutung sind.

Für industrielle Anwendungen sorgt das geringe Z-Achsen-Rauschlevel von 0,04 nm des AtomExplorer für stabile und präzise Messungen auch in anspruchsvollen Umgebungen. Dies macht es für den Einsatz in Bereichen wie Beschichtungen, Polymeren und Nanokompositen geeignet, bei denen die Oberflächenmorphologie die Produktqualität beeinflusst. Der Preis ist verhandelbar, sodass Unternehmen die Investition an ihre spezifischen Bedürfnisse und ihren Umfang anpassen können.

Darüber hinaus ist der AtomExplorer ein ausgezeichnetes Werkzeug für Bildungszwecke und bietet Schülern und Auszubildenden praktische Erfahrungen mit modernster AFM-Technologie. Sein robustes Design und seine einfache Bedienung machen es für die Schulung in nanoskaligen Oberflächencharakterisierungstechniken zugänglich. Insgesamt ist der Truth Instruments AtomExplorer ein zuverlässiges, leistungsstarkes nanoskaliges Mikroskop, das die Anforderungen verschiedener Anwendungsszenarien erfüllt, die eine präzise Oberflächenstrukturanalyse und AFM-Bildgebung mit Subnanometer-Auflösung erfordern.